企業概要

Company Profile

總部	堀場制作所 HORIBA, Ltd.
董事會成員	集團會長兼 CEO　堀場厚
	副會長兼集團 COO　齊藤壽一
	董事長兼 COO　足立正之
創立	1945年 10月17日
成立	1953年 1月26日
總部	601-8510 京都市南區吉祥院宮之東町2番地
注冊資本	120.11 億日元 (截至2020年12月31日)
綜合凈銷售額	1870.8 億日元 (至2020年12月31日)　» 投資者相關頁面
員工數量	8,269 (截至2020年12月31日)
業務范圍	生產和銷售汽車排放測量系統、環境測量儀器、種類齊全的科學分析儀、體外診斷分析儀和半導體行業使用的測量設備等。HORIBA還生產和銷售外圍測量與分析設備。此外，公司還可為實驗室等機構提供用于研發、生產和其他應用的測量與分析設備
結算日	12月31日
上市	東京證券交易所第1部
日本分部	京都總部、滋賀、東京、宮城、櫪木、茨城、神奈川、靜岡、愛知、大阪、香川、廣島、福岡、熊本
海外分部	奧地利、巴西、加拿大、中國、法國、德國、印度、印度尼西亞、意大利、日本、韓國、波蘭、俄羅斯、新加坡、中國臺灣、泰國、英國、美國、越南

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在比利時、捷克、荷蘭、葡萄牙、俄羅斯、西班牙、瑞典和越南設立分公司
截至2020年12月31日

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產品簡介在線詢價

外形小巧、運營成本低、應用范圍廣光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統PR-PD3系列產品運轉效率高，具有*穩定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼承了各個結構簡單、*穩定運轉的搬運系統，高通過量、可靠性高的光學系統

光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統PR-PD3-顆粒物監測儀產品詳情

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3

外形小巧、運營成本低、應用范圍廣光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3系列產品運轉效率高，具有*穩定性，受到眾多半導體制造工廠的高度評價。繼承了各個結構簡單、*穩定運轉的搬運系統，高通過量、可靠性高的光學系統。以及具有防誤測功能等高性能設備并巧妙組合成一個整體的產品就是PR-PD3。和以往的機型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了約1/2，追求低運營成本。檢測靈敏度達到0.5μm，具有廣泛通用性。誕生了可以用來滿足光掩模(reticle/mask)上異物檢測這一廣泛需求的簡便裝置。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統PR-PD3特征

和以往機型相比，設計小了1/2左右。和PR-PD2相比較，底面面積小了1/2，實現了小巧化。由于占地面積大幅變小，所以即使添加操作裝置(可選件)，也可以自由地進行布局。
實現了低運營成本。采用激光中具有超群經濟性的氦氖激光，同時，采用了結構簡單的載物臺搬運系統等，大幅度地降低了維護運營成本。
有效的防誤測措施。搭載有粗圖案用的偏振差動和細微圖案用的低通差動這二個功能。通過同時使用這二種方法，可以有效地防止OPC等具有兩種特性的圖案誤檢測。

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