高純氧化鋁研磨高剪切研磨機,氧化鋁均質分散研磨機,氧化鋁水性漿料研磨機,三氧化二鋁均質分散研磨機，氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3
氧化鋁研磨分散機的設備技術越來越高，可以生產1微米以下的氧化鋁。納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該氧化鋁是納米氧化鋁經過層層深加工篩選出來的氧化鋁，添加到各種丙烯酸樹脂，聚氨酯樹脂，環氧樹脂，三聚氰胺樹脂，硅丙乳液等樹脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以提高樹脂的硬度，硬度可達6-8H，*透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，同時可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。
氧化鋁陶瓷隔膜漿料分散機可以為氧化鋁粉的生產工業中產生大量的尾礦和赤泥對環境的影響非常大，鋁土礦作為*資源， 其保障程度直接制約著一個地區氧化鋁工業的總量與生存周期。因此，各級政府和有關部門，必須準確把握氧化鋁工業的發展形勢，資源與環境制約狀況和基本規律，按照總量控制的要求，嚴格控制新建氧化鋁項目，堅決制止盲目發展和低水平重復建設，努力實現氧化鋁工業發展與資源充分利用，優化生態環境相統一。
高純氧化鋁研磨分散機,氧化鋁均質分散乳化機,氧化鋁水性漿料分散機
設備參數
• 連續分散機
• 優化分散頭 2G, 4M, 6F，8SF
• 可選分散頭
• 內表面 Ra 0,8-1,2
• 選項:
– 雙層外罩
– 不同的法蘭盤，例如DIN 11851, DIN 2633 , 三向夾扣, ANSI #150 法蘭盤
– 不同的選擇材料
– 內外表面拋光 Ra 0,8 (pharma)
– 與PLC相同的泵葉片
• 輔助部件:慮網, 套管
• 電子控制
99.995%高純氧化鋁系列主要用于LED人造藍寶石晶體，高級陶瓷，PDP熒光粉及一些高性能材料。作為藍寶石晶體原料，根據不同的要求可提供粉體，顆粒，塊狀或者柱狀等類型。德國IKN技術可以為氧化鋁工業帶來重要性的生產發展
IKN氧化鋁高剪切均質乳化機應用于各種物料的超細粉碎，如農藥、醫藥、炭黑、白炭黑、AC發泡劑、復印墨粉、熒光粉、鋯英砂、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鋇、涂料、石墨、塑料盒橡膠用各種填充劑、非金屬礦，以及各種高價值營養品、珍珠粉、花粉等。隨著高科技產業的發展，對各種物料的超細粉碎要求的提高，還會應用到更加廣闊的領域。
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IKN氧化鋁均質分散研磨機的技術參數：
高速研磨機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
從設備角度分析，影響研磨效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結構（見磨頭結構）
4 物料在磨頭墻體的停留時間，乳化分散時間
5 循環次數
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，研磨速率取決于以下因素：
磨頭的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 （相對而言）
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
