HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監測系統
基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸
產品概述：HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監測系統
HC-CMS-2000DN型 氨逃逸在線監測系統基于可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術原理。系統包括預處理、氣體分析模塊和數據處理與顯示三大部分。被測氣體經過高溫采樣探頭除塵、伴熱管高溫傳輸、進入高溫氣體分析模塊（TDLAS技術）分析測量。有效的解決了銨鹽低溫結晶堵塞流路，低溫冷凝水析出溶解NH3導致的測量精度偏低，原位式系統高粉塵衰減光路導致無法測量等技術難題。
技術規格：
測量技術：可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術
量程范圍：0～20μmol/mol（可定制）
示值誤差：≤±1%F.S.
零點漂移：≤±1%F.S./7d
量程漂移：≤±1%F.S./7d
響應時間：≤120s
模擬接口：2路，4-20mA 輸入
通訊接口：RS485/GPRS
供電：（220±15%）VAC，5000W
尺寸： 600mm×285mm×1200mm
產品特點：
“單線光譜”吸收技術避免背景氣體干擾、檢測下限低、量程漂移小
220℃以上伴熱避免銨鹽結晶及水份溶解吸收
自動化程度高、維護量小
結構緊湊、便于安裝
產品應用：
適用于包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電站、水泥廠、化工廠等SCR或SNCR脫硝裝置的氨氣逃逸排放監測和過程控制
