ASUMI技研株式會社準分子照射裝置

準分子照射裝置

采用以172nm紫外線為主波長的準分子照射裝置進行表面改性。因為采用了RF (高頻)放電燈，閃爍少的穩定的輸出功率。 另外采用平面型燈，大面積實現了均勻的照射

準分子照射裝置(主波長: 172nm )

Ø 因為采用了RF放電燈，閃爍少的穩定的輸出功率。 采用平面型燈，大面積實現均勻的照射

Ø 準分子燈利用了封入稀有氣體的燈內產生的放電等離子體(電介質阻擋放電)產生的光(準分子光)。

Ø 主要波長有126nm(Ar2)、146nm(Kr2)、172nm(Xe2)、222nm(KrCl )、308nm(XeCl )。

Ø 本公司采用利用了Xe2的以172nm為主波長的燈單元，提供表面改性、親水化處理(潤濕性方向上)用的裝置

Ø 與將放電直接照射到工件的電暈放電、等離子體方式不同，準分子照射只是真空紫外線的照射，對工件幾乎沒有損傷。

Ø 與電極的濺射產生粉塵的電暈放電、等離子體方式不同，可進行清潔處理。

Ø 利用光的準分子照射沒有處理不均。

Ø 可瞬時點亮、熄滅

Ø 因為采用了RF (高頻)放電燈，閃爍少的穩定的輸出功率。

Ø 采用平面型燈，大面積實現均勻的照射

ASUMI技研株式會社準分子照射裝置

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