真空管式氣氛爐廠家這款CVD系統集管式氣氛爐，多通道氣路系統和真空系統組成，可根據用戶需要設計生產（有雙溫區、三溫區、多溫區），可預抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器）。

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真空管式氣氛爐廠家性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結等實驗。CVD真空管式爐CVD真空管式爐CVD真空管式爐，高溫真空管式爐廠家

高真空管式爐

 爐管尺寸外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm

 極限溫度1700 ℃

工作溫度800 -1600 ℃

溫度控制器PID自動控制 晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器

zui快升降溫速率1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min

加熱區360mm

恒溫區150mm

溫度精度±1 ℃

電源單相220V,交流50Hz

多通道流量計控制系統

標準量程100，200 ，500，1000SCCM； （以氮氣標定，除以上標準外量程可選）

準確度±1.5%

工作壓差范圍0.01～0.05 MPa

zui大壓力0.02MPa

接頭類型Φ6雙卡套不銹鋼接頭

高真空系統泵體積流量N233 L/S

壓縮比10:11    

實驗真空值6.7*10-3Pa

功率消耗140W

啟動時間2min

電源要求：185-265VAC