光電流成像光譜系統

用于材料表面光電流分布特性的激光共聚焦光電流成像光譜系統，帶低溫探針臺。

Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術，對樣品表面做一個快速掃描。產生的光電流信號通過探針引到電流源表，再顯示在軟件界面，做成成像圖顯示樣品表面電流分布。

光電流成像系統Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統，用來檢測材料光電流強度分布的設備，主要用來測量光電材料的光電響應信號和表征材料的光電特征。

Photocurrent Mapping system 光電流成像系統將光電材料對于光信號響應的不均勻性以可視化和量化的方式顯示出來。該系統可以研究光電探測器的量子效率，器件的電阻分布特征，研究太陽能電池光生電流的不均勻性，研究器件吸收和電荷生成的微區特性，以及光電材料界面，半導體結區的品質分布等。

產品特點：
超快掃描成像（大于1000譜/S）

超緊湊結構（光電流掃描成像和顯微鏡一體式設計）

成本低（客戶僅需要在原來的探針臺或者拉曼設備上做改造就可以，不需要額外購買平移臺，這是振鏡掃描的優勢所在）

可視化和人性化軟件（定制研發了電流源表輸出和成像掃描視覺窗口，客戶在一個界面實現光電流數據和成像mapping的對比比較方便）

可擴展增加其它波長的激光器，增加拉曼光譜，熒光光譜成像系統等

可增加高低溫恒溫器，鎖相放大器，斬波器等

關鍵參數：
激光器（光源） ?  

l可配置1~3個激光器，窄線寬激光器用于拉曼光譜測試和光電流測試
l波長范圍： 400~1550nm （典型的為 VIS: 405nm/532nm/633nm,   NIR :1550nm）

l可選配一個光纖接口用于接入外部激光器光源

l可選配超連續譜白光激光器（400nm~2400nm）

顯微鏡             

l奧林巴斯顯微鏡：BX61 （正置）（可根據客戶要求選配）
l反射式/透射式LED照明

l物鏡：標配（40X， NA=0.75） 選配：多種倍率和超長焦距物鏡
l透過率：＞60% （360nm~1000nm）

掃描模塊 ?             

l掃描面積：200um×200um
l掃描精度：   小于10nm

l步進：＜50nm
l掃描速度：＞1000 譜/秒

電流 ?                    

l測量范圍：1pA – 1A
l準確度： 0.04%

l電流源表：Keithley 2400

探針臺 ?                

l可根據客戶要求定制

其它 ?                   

l低溫恒溫器（2.2K）/高溫熱臺（1500℃）
l根據客戶要求定制探針臺

l可選配斬波器，前置放大器，鎖相放大器等提高系統靈敏度

探針臺參數：
探針臺 6寸真空吸附卡盤，
光譜范圍 750px-1到150000px-1
XY方向移動范圍 150 x 150mm, 分辨率5um FOV：200µm x 200µm@40X物鏡
Z方向移動范圍 上/下10mm, 分辨率1um
探針頭 金，鎢
高精度定位器 PH-C15, 10fA leakage current 4SET