TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。
特點
TDF型晶體分析儀采用立式管套，四個窗口可以同時使用。
X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術，控制精度高、抗干擾性好，可實現本系統可靠地工作，PLC控制高壓的開關、升降、具有自動訓練X光管的功能，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。
高壓發生器
- 管電壓：10-60KV
- 管電流：2-80mA
- 管電壓、管電流穩定度0.3‰
- 額定輸出功率：5KW
- 具有無壓、過壓、無毫安、過功率、無水、X光管超溫等保護
- 功率范圍可通過PLC文本顯示器任意設置
- 工作時間設置范圍：0-999min
X射線管
- 額定功率：2KW
- 焦點尺寸（mm）：點焦點（1*1）線焦點（1*10）
- 靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等
高壓電纜
- 介電電壓≥100KV
- 長度：2M
X射線防護罩
采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩，外射線量不大于0.1µ Sv/h
X射線照相機
- 勞厄相機（大小粉末）
- 平板相機
- 三維樣品臺
- 美國Multiwire相機
有關產品的詳細信息歡迎隨時！
