CT200N氧化膜測厚儀（CT200拓展型）
CT200N氧化膜測厚儀（CT200拓展型） 產(chǎn)品概述：
CT200升級版在開發(fā)過程中，增強(qiáng)了數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)功能，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)采用回環(huán)覆蓋方式，避免了新用戶使用時(shí)出現(xiàn)存儲(chǔ)器滿的異常。采用了磁性(CT200F)和渦流(CT200N)兩種測厚方法，即可測量磁性金屬基體上非磁性覆蓋層的厚度又可測量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度
CT200N氧化膜測厚儀（CT200拓展型） 功能特點(diǎn)●更加方便的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)、增加存儲(chǔ)量
●任意界面測量
●新穎的界面布局
●簡潔、經(jīng)濟(jì)、實(shí)用
●增加了渦流功能測厚，實(shí)現(xiàn)一機(jī)兩用
●設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量：平均值（MEAN）、*大值（MAX）、*小值(MIN)、測試次數(shù)（NO.）
標(biāo)準(zhǔn)偏差（S.DEV）
●具有存貯功能：可存貯500個(gè)測量值
CT200N氧化膜測厚儀（CT200拓展型）技術(shù)參數(shù)：
測頭類型 | CT200F | CT200N | |
工作原理 | 磁感應(yīng) | 電渦流 | |
測量范圍 | 0~1250μm | 0~1250μm，其中：銅上鍍鉻（0~40μm） | |
分辨力 | 0.1μm（0~50μm），1微米（＞50μm） | ||
測量誤差 | 3%H＋1μm（H為測量范圍） | ||
示值誤差 | 一點(diǎn)校準(zhǔn)（μm） | ±（3%H+1） | ±（3%H+1） |
測試條件 | *小曲率半徑（μm） | 凸1.5 | 凸3 |
*小面積的直徑（μm） | Φ7 | Φ5 | |
基體臨界厚度（㎜） | 0.5 | 0.3 | |
工作電壓 | 3*1.5V | ||
外形尺寸 | 155㎜*68㎜*27㎜ | ||
整機(jī)重量 | 230g | ||
標(biāo)準(zhǔn)配置 | 主機(jī)、探頭（F或N）、基體（鐵或鋁）、標(biāo)準(zhǔn)片 | ||
CT200N氧化膜測厚儀（CT200拓展型）標(biāo)準(zhǔn)配置：
主機(jī)、探頭（F或N）、基體（鐵或鋁）、標(biāo)準(zhǔn)片、電池、隨機(jī)文件、儀器箱
