MBR地埋式一體化污水處理設(shè)備廠家不同污染物結(jié)垢堵膜的表現(xiàn)
1、碳酸鹽垢
結(jié)垢后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)滲透水流量下降，或是脫鹽率下降。
原因：膜表面濃差極化增加。
2、鐵/錳
污染后表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高（主要發(fā)生在裝置前端的膜元件），也可能引起透水量下降。通常錳和鐵會同時存在。
3、硫酸鹽垢
若發(fā)生沉積，首先影響鹽濃度的系統(tǒng)后面的膜元件，表現(xiàn)為二段壓差明顯升高。需要用清洗劑。
4、硅
顆粒硅：污堵膜元件水流通道，導(dǎo)致系統(tǒng)壓差升高。采用0.4%二氯胺對于溶解嚴重污染的硅垢是有效的。
膠硅：與顆粒硅相似。
溶解硅：形成硅酸鹽析出，應(yīng)采用二氯胺清洗。
5、懸浮物/有機物
污堵表現(xiàn)：透水量下降，一段壓差明顯升高。若給水SDI大于4或濁度大于1，有機物污染的可能性較大。
6、微生物
污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高或標(biāo)準(zhǔn)透水量下降。可采用非氧化性殺菌劑加堿進行清洗。
7、鐵細菌
污堵表現(xiàn)：標(biāo)準(zhǔn)壓差升高。可采用EDTA鈉鹽加堿進行清洗。
發(fā)生下列情況時應(yīng)該清洗膜了
1、標(biāo)準(zhǔn)化后的設(shè)備產(chǎn)水量減少了10~15%；
2、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)運行壓力增加了15% ；
3、標(biāo)準(zhǔn)化后的膜系統(tǒng)鹽透過率較初始正常值增加了10~15%；
4、運行壓差較初始作業(yè)時增加了15%
反滲透膜的清洗方法
1、負壓清洗：負壓清洗可以說是通過設(shè)備的真空抽吸，在反滲透膜側(cè)面形成的壓力，這樣可以有效的去除膜表面以及內(nèi)部的污染物；
2、反沖：反沖是利用強力的氣體或者液體對膜的表面進行清洗，從而達到清理膜內(nèi)部的污染物，讓膜恢復(fù)干凈，反沖目前是清洗反滲透膜較為常用的一種方式之1；
3、化學(xué)清洗：化學(xué)清洗的方法是使用化學(xué)清洗劑對反滲透膜進行清洗，由于是化學(xué)物有針對性的清洗同樣能夠有效的對膜進行清洗，這種方式也是人們常用的清洗方式之一。

MBR地埋式一體化污水處理設(shè)備廠家總體結(jié)構(gòu)及工作原理
    總體結(jié)構(gòu)：發(fā)生器由供料系統(tǒng)、反應(yīng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和安全系統(tǒng)構(gòu)成：發(fā)生器外殼為PVC材料。
    工作原理：由計量泵將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液輸入到反應(yīng)器中,在一定溫度和負壓下進行充分反應(yīng),產(chǎn)出以二氧化氯為主、氯氣為輔的消毒氣體,經(jīng)水射器吸收與水充分混合后形成消毒液后,通入被消毒水中。
    (二) 主要部件功能及工作原理
    (1) 水射器：水射器是根據(jù)射流原理而設(shè)計的一種抽氣元件,當(dāng)動力水經(jīng)過水射器時,其內(nèi)部產(chǎn)生負壓,外部氣體在壓差作用下被子吸入水射器,從而實現(xiàn)吸氣。被吸入的二氧化氯氣體在些與混合,形成消毒液,另外,水射器還用于原料罐吸收。
    (2) 計量泵：輸送原料及調(diào)節(jié)流量。
    (3) 反映器曝氣口〔進氣口〕：設(shè)備運行時的空氣通道,安裝時,可連接管道并通到室外,并保持與大氣相通。
    (4) 電接點壓力表：電接點壓力表是保護設(shè)備安全運行的裝置之一,其工作原理是：當(dāng)水射器前端水壓低于設(shè)定值時,該表控制計量泵停止進料。
    (5) 原料液位傳感器：原料液位傳感器也是保護設(shè)備安全運行的裝置之一,它安裝于兩個原料罐底部,當(dāng)任何一種原料用完時,計量泵將停止進料。
    (6) 溫度控制器：溫度控制器是系統(tǒng)加熱控制機構(gòu),它保證了氯酸鈉和鹽酸的*化學(xué)反應(yīng)溫度。
    (7) 控制器：控制器是二氧化氯發(fā)生器的控制核心,它完成了系統(tǒng)的整個自動控制。一、系統(tǒng)正常停機步驟