等離子體發射測量
在紫外線...近紅外線范圍可同時觀察到等離子發射
低壓等離子沉積技術是一個客觀的連續不斷的過程,如PVD(物理氣象沉積)是今天真正的問題之一。除了等離子體發射光的表觀檢查,有時也使用質譜技術。但是質譜技術既不方便操作,其結果也不容易理解。與此相比,使用OES(發射光譜)和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點是顯而易見的。
技術特征
在200...1000nm光譜范圍內可同時測量
可檢測非常底的發射信號
可連接到幾乎每個真空室
無需維護
舒適和易于使用的PEM-ProVis專業版軟件