光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業 。光刻膠生產技術較為復雜，品種規格較多，在電子工業集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。
粘性是指流體內部由于內摩擦作用而阻礙其相對流動的一種特征，以粘度來表示其大小(作用于1單位面積的內摩擦力)，單位是Pa·s。粘度的測定，一般采用旋轉粘度計，以在含70%固含量的高嶺土泥漿中的轉速來衡量。在生產工藝中，粘度具有重要意義，它不僅是陶瓷工業的重要參數，對造紙工業影響也很大。據資料表明，國外用高嶺土作涂料，在低速涂布時要求粘度約0.5Pa·s，高速涂布時要求小于1.5Pa·s。
觸變性指已經稠化成凝膠狀不再流動的泥漿受力后變為流體，靜止后又逐漸稠化成原狀的特性。以厚化系數表示其大小，采用流出粘度計和毛細管粘度計測定。
粘性和觸變性與泥漿中礦物成分，粒度及陽離子類型有關，MTS含量多的，顆粒細的，交換性陽離子以鈉為主的，其粘度和厚化系數高。因此工藝上常用添加可塑性強的粘土、提高細度等方法提高其粘性和觸變性，用增加稀釋電解質和水分等方法降低之。
ViscoTron偉思創科光刻膠粘度在線分析儀采用扭矩微振蕩原理粘度測定法是經由驅動線圈通電后，激勵橫梁，并且帶動連接在傳感器探頭上的驅動軸來、回扭動，進而在傳感器探頭表面上產生微振幅的共振剪切波。
工作時，此傳感器*浸入液體后，由于不同的液體具有不同的粘度，因此使得液體和傳感器探頭表面之間，產生不同振幅的相位變化；而此時傳感器振幅共振剪切波，隨著粘度的增大，共振周期會衰減更快；由VT-IRFTx變送器用電測法測量其振幅衰減，將衰減波形放大、整流，運用FFT運算出包絡線的綜合電壓值。變送器將此電壓值的信號，通過FFT轉為液體的真實粘度值，并以數位顯示之。
ViscoTron偉思創科光刻膠粘度在線分析儀
ViscoTron偉思創科光刻膠粘度在線分析儀
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