特點
1.145萬像素科研級逐行掃描CCD，0級（0缺陷），全自動6倍光學變焦鏡頭，捕捉精致影像，并增加定量分析的精確度；
2.真正的12-Bit 數(shù)據(jù)捕捉，累計可達到16-Bit;
3.等焦面技術（Parfocal）在全變焦范圍內保持焦點不變，保證成像過程中無需聚焦；
4. 光源校正技術排除了非均一的光源對信號強度的影響，保證定量的準確性；實時預覽功能使樣品的擺放與調整更加精確；
5. 最多32幀的圖像累積功能增強線性動態(tài)范圍（>16,000灰度級）和數(shù)據(jù)準確度；
6. 可選紫外防護罩，可安全簡單的觀看EB或其他熒光染料的圖像并可切膠；
7. 白光落射光源提供有色標記樣品的成像能力，抽屜式紫外透射儀方便樣品操作；
8. 白光透射（LED燈）及紫外落射光源可選；
9. 可升級到性能更優(yōu)的Gel Logic2200 PRO型化學發(fā)光成像儀。
技術參數(shù)：
1.CCD： 1392×1032，145萬像素；
像素大小 4.65μm×4.65μm
像素位深 12-bit優(yōu)化，16-bit；
鏡頭 全自動6倍變焦，f1.2, 8-48 mm；
成像面積 3.5×4.5~24.5×33cm；
2.濾光片數(shù)量： 6個位置的濾光片輪，
濾光片設計；標配濾光片 ：590 nm；
可選濾光片 ：425 nm,535 nm,570 nm,670 nm；
光源 紫外透射： 標配306 nm 紫外透射光源;
白光透射： 選配白光轉換板或LED透射光源；
白光落射： 標配雙側白光落射光源；
紫外落射； 選配254 nm或370 nm紫外落射光源；
曝光模式： 單一曝光、多重曝光、累進曝光、定時曝光；
操作系統(tǒng)與數(shù)據(jù)傳輸： MACINTOSH與FIREWIRE（IEEE1394）；
光學分辨率： 10μm/Pixel。
