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EMG EVK2-CP/800.71L/R光電探頭
EMG EVK2-CP/800.71L/R光電探頭
光電探測(cè)器的原理是由輻射引起被照射材料電導(dǎo)率發(fā)生改變。光電探測(cè)器在軍事和國(guó)民經(jīng)濟(jì)的各個(gè)領(lǐng)域有廣泛用途。在可見(jiàn)光或近紅外波段主要用于射線測(cè)量和探測(cè)、工業(yè)自動(dòng)控制、光度計(jì)量等;在紅外波段主要用于導(dǎo),彈制導(dǎo)、紅外熱成像、紅外遙感等方面。光電導(dǎo)體的另一應(yīng)用是用它做攝像管靶面。為了避免光生載流子擴(kuò)散引起圖像模糊,連續(xù)薄膜靶面都用高阻多晶材料,如PbS-PbO、Sb2S3等。其他材料可采取鑲嵌靶面的方法,整個(gè)靶面由約10萬(wàn)個(gè)單獨(dú)探測(cè)器組成。
EMG LID2-800.32C 對(duì)中光源發(fā)射器
EMG EVK2-CP/300.02/R光電傳感器
EMG LLS 675/02 電動(dòng)缸
EMG SV1-10/32/315-6 伺服閥
EMG SV1-10/8/315/6
EMG SV1-10/16/120/6 伺服閥
EMG SV1-10/48/315-6伺服閥
EMG SV1-10/16/315-6伺服閥
EMG KLW 300.012傳感器
EMG KLW 150.012傳感器
EMG KLW 225.012傳感器
EMG KLW 360.012傳感器
EMG KLW150.012傳感器
EMG KLW225.012傳感器
EMG KLW300.012傳感器
EMG KLW450.012傳感器
EMG KLW600.012傳感器
EMG SV1-10/8/315/6伺服閥
EMG SV1-10/48/315/6伺服閥
EMG SV1-10/32/100/6伺服閥
EMG SV1-10/8/120/6伺服閥
EMG SV1-10/4/120/6伺服閥
EMG SV2-16/125/315/1/1/01伺服閥
EMG HFE400/10H濾芯
EMG KLM300/012位移傳感器
EMG LLS675/02 LICHTBAND對(duì)中整流器
EMG LIC1075/11光發(fā)射器
EMG EVK2.12電路處理板
EMG BK11.02電源
EMG MCU16.1處理器
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG LID2-800.2C 對(duì)中光源發(fā)射器
EMG DMC2000-B3-160-SMC002-DCS電動(dòng)執(zhí)行器
EMG KLW300.012位移傳感器
EMG LIC2.01.1電路板
EMG EB1250-60IIW5T推動(dòng)桿
EMG EB800-60II推動(dòng)桿
EMG EB220-50/2IIW5T推動(dòng)桿
EMG EB300-50IIW5T推動(dòng)桿
EMG L1C770/01-24VDC/3.0A發(fā)射光源
EMG ED121/6 2LL5 551-1制動(dòng)器
EMG EVB03/235351放大器
EMG SMI 2.11.1/2358100134300對(duì)中控制
EMG SMI 2.11.3/235990電路板
EMG LWH-0300位置傳感器
EMG DMCR59-B1-10電動(dòng)執(zhí)行器
EMG SV1-10/32/315/6伺服閥
EMG SV1-10/32/315/8伺服閥
EMG SV1-10/48/315/8伺服閥
EMG SV2-10/64/210/6伺服閥