半導體超純水設備是應用于半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。

半導體工業用超純水設備去離子設備純水設備

半導體(semiconductor)，指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是較常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等;氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。

電去離子（Electrodeionization）簡稱EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環保技術。EDI凈水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。這種*技術的環保特性好，操作使用簡便，愈來愈多地被人們所認可，也愈來愈多廣泛地在醫藥、電子、電力、化工等行業得到推廣。

EDI超純水設備的主要特點：

1.產水水質高而具有較佳的穩定度高

2.連續不間斷制水，不因再生而停機。

3.模塊化生產，并可實現全自動控制。

4.不須酸堿再生，無污水排放。

5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

6.設備結構緊湊，占地面積小。

7.運行費用及維修成本低。

8.運行操作簡單，勞動強度低

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