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  • 倒置金相顯微鏡            GX53

倒置金相顯微鏡 GX53

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具體成交價以合同協議為準
  • 型號
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時間2022-08-16
  • 廠商性質其他
  • 所在地區上海
  • 實名認證已認證
  • 產品數量132
  • 人氣值715
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上海西努光學科技有限公司,以下簡稱西努光學。西努光學成立于2003年,始終致力于“以光學為核心,為用戶提供檢測解決方案”為方針,推動智能檢測裝備的轉型升級,將顯微光學成像以及圖像算法應用于檢測技術的科技創新公司。 公司專注服務于工業領域客戶,通過顯微光學成像、圖像算法及實驗方案應用技術和產品幫助工業企業實現數字化、智能化檢測發展。公司主要為用戶提供檢測技術方案及檢測裝備。產品功能涵蓋尺寸及缺陷檢測、智能制造、實驗室理化解決方案等工業領域多個環節。 經過十余年的深耕與積累,公司累計服務2000多家客戶,積累了大量的行業經驗,并確保了前沿的顯微光學與檢測實際場景的深度融合。公司主要客戶群體涵蓋了微電子行業、汽車零件行業、智能裝備等工業領域。 西努光學以科技創新為公司發展的原動力,以顯微光學成像、圖像算法為核心技術,緊密圍繞企業的檢測需求,通過持續科技創新,為用戶提供*的工業檢測設備及應用方案。西努光學 誠信為您服務 專業為您服務基本價值觀:1、西努光學秉持“以光學為核心,為客戶提供解決方案”的經營方針,致力于光學檢測與應用水平的提升。2、西努光學以誠信、專業、服務為基本價值觀和追求,以實現客戶-西努、供應商-西努光學、合作伙伴-西努、員工-西努雙贏為目標。3、西努光學認為員工是西努寶貴的財富,是構成西努價值和競爭力的核心;西努光學將根據自身條件不遺余力地為員工職業發展、事業發展和家庭幸福做出*大努力。4、公平、公正、坦誠是西努人事制度的價值基礎;友愛互助、團隊協作是西努特別重視的品質;勤勉、敬業、精益求精是西努特別強調的職業精神。5、誠信守約是西努基本行為準則。西努堅決反對和抵制一切欺詐、不守信諾的行為;無論這種行為基于何種理由。6、可持續發展、效益穩定增長、效率穩步提升是西努戰略制定的基本準則和依據。7、技術和服務是西努能夠成為光學解決方案提供商的關鍵,西努光學確保技術提升、客戶滿意度提升方面的投入能夠隨利潤的增長而增長。
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快速分析較厚的大尺寸樣品材料專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業設計的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像
倒置金相顯微鏡 GX53 產品詳情

快速分析較厚的大尺寸樣品材料


專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業設計的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像。

在配合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用情況下,該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析及報告的整個檢測流程變得更加順暢。






檢測快捷,功能*


快速觀察、測量和分析金相組織。


*的分析工具

1. 采用組合觀察方法獲得出色圖像

2. 輕松生成全景圖像

3. 生成全聚焦圖像

4. 采集明亮區域和暗光區域 

針對材料學的優化

1. 專為材料科學而設計的軟件

2. 符合行業標準要求的金相分析 



人性化
即便新手操作員也能夠輕松完成樣品觀察、結果分析/報告創建。

1. 輕松恢復顯微鏡設置

2. 用戶指導讓上等分析變得更加簡單

3. 高效的報告創建 


*的成像技術
我們成熟可靠的光學器件和成像技術能夠提供清晰的圖像和可靠的檢測結果。

1. 可靠的光學性能:波前像差控制

2. 清晰的圖像:圖像陰影校正

3. 一致的色溫:高強度白光LED照明

4. **測量:自動校準 




塊化
根據您的應用要求選擇所需的組件。
1. 打造專屬于您的系統:利用各種選配組件獲得**定制的系統 




*的分析工具


GX53顯微鏡的各種觀察功能可獲得清晰銳利的圖像,讓您能夠對樣品進行可靠的缺陷檢測。奧林巴斯Stream圖像分析軟件的新型照明技術和圖像采集方案可為您提供評估樣品和記錄研究結果的更多選擇


從不可見到可見:MIX技術

MIX技術將暗場與另一種觀察方法(如明場或偏振)相結合,讓您能夠觀察傳統顯微鏡難以觀察的樣品。圓形LED照明器的定向暗場功能可在時間照射一個或多個象限,從而減少樣品光暈,更好地觀察表面紋理。

印刷電路板切片

                                                         明場              
                                                         襯底層和通孔不可見。
暗場                                                   
痕跡不可見。                    
MIX: 明場+暗場                           
所有組件均可清晰呈現。

                                                       明場
                                                       紋理無法觀察。
暗場象限
色彩信息被去除。
MIX: 明場+暗場象限
材料色彩和紋理均可觀察

輕松生成全景圖像: 即時MIA


通過多圖像拼接(MIA)功能, 您轉動手動載物臺上的XY旋鈕即可輕松完成圖像拼接—電動載物臺為選配。奧林巴斯Stream軟件采用模式識別生成全景圖像,特別適合用于檢查滲碳和金屬流動情況。


螺栓的金屬流動


                                                              使用XY旋鈕調節載物臺位置。                                                                                                                                      可觀察到金屬流動的全部狀況。

生成全聚焦圖像EFI

奧林巴斯Stream軟件的景深擴展(EFI) 功能可采集高度超出景深范圍的樣品圖像。EFI可將這些圖像堆疊在一起生成單幅的樣品全聚焦圖像。即便分析表面不平坦的切片樣品時,EFI也能夠創建全聚焦圖像。
EFI配合手動或電動Z軸聚焦裝置,可生成高度圖像,對結構進行可視化觀察。


樹脂零件


                                                             使用對焦手柄調整物鏡高度。                              EFI自動采集和堆疊多幅圖像,生成單幅的樣品全聚焦圖像。                                 生成全聚焦圖像。


利用HDR同時采集明亮區域和暗光區域

采用*圖像處理技術的高動態范圍(HDR)可在圖像內調整亮度差異,從而減少眩光。其也有助于增強低對比度圖像的對比度。高動態范圍(HDR)功能可用于觀察電子組件的細微結構并識別金屬晶界。


金板

                某些部位存在眩光。                                                                                       暗光區域和明亮區域利用HDR獲得清晰呈現。 

鉻擴散涂層

                 對比度低且不清晰。                                                                                                      利用HDR增強對比度。 


應用
采用不同觀察方法所獲得的效果示例。

經過拋光的AlSi樣品(明場 / 暗場)

                       明場                                                                                                                         暗場  
明場:一種觀察直接照射樣品反射光的常見觀察方法。

暗場:可觀察樣品的散射或衍射光線,因此諸如微小劃痕或瑕疵等缺陷非常明顯。

球墨鑄鐵(明場 / DIC)

                             明場                                                                                                                   DIC觀察  
微分干涉相差顯微技術(DIC):一種將樣品高度以類似提高了對比度的3D圖像,呈現出浮雕效果的觀察技術;其非常適用于觀察金相結構和礦物等具有極其細微高度差的樣品。

鋁合金(明場/偏光)

                     明場                                                                                                                    偏光觀察  
偏光:一種能夠突出材料紋理和晶體狀態的觀察技術,用于觀察諸如球墨鑄鐵的石墨生長類型等金相結構和礦物。

電子組件(明場/ MIX觀察)

                     明場                                                                                                               MIX: 明場+暗場  
MIX觀察:將明場和暗場相結合,樣品的顏色和結構均可觀察。
上面的MIX觀察圖像清晰再現了該組件的顏色和紋理以及粘合劑層的狀況。

GX53倒置金相顯微鏡技術規格

 GX53
光學系統UIS2光學系統(無限遠校正系統)
顯微鏡機架反射光照明

通過反射鏡單元進行手動明場/暗場選擇 帶有居中功能的手動場光闌/光圈開關

光源:白光LED(帶有光強度管理器)12伏,100瓦鹵素燈/100瓦汞燈/光纖

觀測模式:明場、暗場、微分干涉(DIC)1、簡易偏光1、MIX觀察(4個定向暗場)2

1此類觀察所需的專用滑塊2需要MIX觀察配置

透射光照明(選配)

代表需要透射光(IX20-ILL100:帶視場光闌)PMG3-LWCD:帶孔徑光闌的聚光鏡(NA 0.6、WD 12mm)

光源:白光LED(帶有光強度管理器)12伏,100瓦鹵素燈/100瓦汞燈/光纖

刻度尺疊印所有端口與透過目鏡所見觀察位置的反向位置(上/下)
前端口輸出(選配)相機和DP系統(倒像、GX特殊相機適配器)
側端口輸出(選配)相機、DP系統(正像)
電氣系統

反射光照明

內置反射光照明LED電源 連續可調光強度標度盤

輸入額定值5V DC,2.5A(AC適配器100-240V,AC 0.4A,50 HZ/60 Hz)透射光照明(需要選配BX3M-PSLED光源)

通過電壓刻度調節連續可變光強度

輸入額定值5V DC,2.5A(AC適配器100-240V,AC 0.4A,50 HZ/60 Hz)外部接口(需要選配BX3M-CBFM光源)

編碼物鏡轉盤連接器*1 MIX滑塊(U-MIXR)連接器*1 手持控制盒(BX3M-HS)連接器*1 手持控制盒(U-HSEXP)連接*1

RS-232C連接器*1,USB 2.0連接器*1

聚焦

帶滾針導軌的齒輪齒條

手動、粗調和精調共軸手柄;焦點行程9毫米(2毫米在載物臺平面以上7毫米在載物臺行程以下)每轉精調手柄行程:100

微米(*新刻度:1微米)

每轉粗調手柄行程7毫米

配粗調焦扭矩調節環 配粗調焦上限限位器

鏡筒寬視場(FN 22)倒置:雙目鏡(U-BI90,U-BI90CT),三目鏡(U-TR30H-2),可傾斜雙目鏡(U0TBI90)
物鏡轉盤明場孔:4至7個,類型:手動/編碼,對中:啟用/禁用 明場/暗場孔:5至6個,類型:手動/編碼,對中:啟用/禁用
載物臺

GX右手載物臺(X/Y行程:50*50毫米,*大載荷5公斤)

活動式右手載物臺,左手短載物臺(各X/Y行程:50*50毫米,*大載荷1公斤)滑動載物臺(*大載荷1公斤)

一組水滴和長孔型

重量約25公斤(顯微機架20公斤)
環境

室內使用

環境溫度:5至40℃(45至100oF)

*大相對濕度:溫度升高至31℃(88oF)時為80%(無冷凝)

當超過31℃(88oF)時,相對濕度在34℃(93oF)線性下降至37℃(99oF)下降至60%在40℃(104oF)下降至50%

污染等級2(符合IEC60664-1)

安裝/過載電壓分類:||(符合IEC60664-1)

電源電壓波動:±10%

 

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