產品概述：
XTK-2200TD型激光痕量氣體分析儀，通過將智能氣體預處理技術、半導體激光吸收光譜(DLAS)技術、長光程氣室技術、三者結合在一起，
使得產品在集成了智能預處理系統的同時，具備痕量氣體檢測的高性能，高可靠性，為天然氣、石化、化工、鋼鐵等行業的痕量氣體分析提供
理想的解決方案。
優勢特點：
? 激光（TDLAS） 技術
● 無交叉干擾：測量不受背景氣、粉塵交叉干擾，測量更準確；
● 響應快：響應速度≦1S，實現工業現場實時分析；
● 壽命長：光源壽命長達 5~10年；
● 維護量小：在線標定技術，無需拆卸設備；
? 全新光路設計，測量精度高
● 采用長光程技術，多次反射，比傳統對射有更高的靈敏度和測量精度；
● 無需現場對光，使用方便；
? 雙通道智能吹掃系統
● 一路進氣，另一路反吹，雙通道交替使用，保證取樣連續穩定，達到分析要求；
? 隔爆設計更安全
● 隔爆設計，比正壓防爆更安全；
? 高集成，成本更低
● 旁路原位安裝，無需分析小屋，節約成本；
● 支持伴熱（選配），保障低溫環境正常使用；
? 物聯網技術（可選）
● 支持無線物聯網模塊， 遠程控制、無線傳輸，運行及分析數據多終端顯示， 可查看設備實時運行狀態、透過率等信息，并提供報警記錄、
歷史數據查詢，信息能以短信方式推送相關人員
現場安裝：
◆ 安裝到正壓區，水平/垂直安裝均可，現場需配備高純氮氣或儀表專用吹掃氣
◆ 無需配置分析小屋；
◆ 無需配套預處理系統；
◆ 原位安裝，開孔方便，無需現場對光；
技術參數：
| 分析儀 | 類別 | 參數 | 指標 |
| 激光痕量 氣體分析儀 | 技術指標 | 測量組分 | H2S： 0-200ppm H2： 0-10%,0-99% NH3： 0-10ppm， HCL： 0-20ppm， |
| 線性誤差 | ≤±0.5%F.S./半年 | ||
| 量程漂移 | ≤±0.5%F.S./半年 | ||
| 零點漂移 | ≤±0.5%F.S./半年 | ||
| 重 復 性 | ＜1% | ||
| 防爆等級 | ExdIICT6 Gb | ||
| 防護等級 | IP65 | ||
| 響應時間 | ≤1s（T90） | ||
| 接口信號 | 模擬量輸出 | 2路4～ 20mA電流（隔離、 負載750Ω） | |
| 繼電器輸出 | 2路輸出（繼電器規格： 24V， 1A） | ||
| 模擬量輸入 | 2路4～ 20mA電流（溫度、 壓力補償） | ||
| 通訊接口 | RS485/RS232/GPRS（可選） | ||
| 電氣特性 | 電 源 | 24VDC（18～ 36VDC） | |
| 功 耗 | ＜ 25W（分析儀主機） | ||
| 工作條件 | 環境溫度 | -35～ 60℃ | |
| 吹掃氣體 | 0.3～ 0.8MPa工業氮氣或干燥潔凈儀表氣等 |
