PI2114 過氧化氫 (H₂O₂ ) 氣體濃度分析儀

? 持續測量亞 ppb 級的 H2O2 

? 內置軟件，以符合 21 CFR Part 11 要求 

? 獲得的光腔衰蕩光譜 ( CRDS ) 技術 

? 僅需少量維護 ? 無需采用濕化學法或耗材

應用領域：確保 GMP 制藥生產中過氧化氫的超低殘留

Picarro PI2114 氣體濃度分析儀可確保超低殘留的過氧化氫水平，以便在隔離的符合藥品生產質量管理規范 ( GMP ) 的制藥生產應用中助 力避免發生氧化并確保藥物穩定性。高效原料藥  ( API ) 和生物制劑制造以及無菌灌裝與后續工藝 需要采用無菌、隔離的生產環境。氣化過氧化氫  ( vHP ) 廣泛用于滅菌和去污。然而，如果在去污 和曝氣后殘留的過氧化氫水平仍然過高，則藥物 產品會發生氧化和降解。

Picarro PI2114 氣體濃度分析儀能夠以高于  1 ppb 的精度持續測量低至 3 ppb 的過氧化氫  (H₂O₂ ) 水平。該分析儀針對 GMP 應用進行了優 化。

安裝與操作認證快速而便捷，使用市售的替 代氣體即可完成驗證。

PI2114 分析儀附裝內置軟件，符合美國食品 和藥物管理局 21 CFR Part 11 條款就臨床和商業 化制造方面的規定。

可配置為以數字格式或通過可選的模擬輸出 將測量數據自動輸出至 SCADA 控制系統或數據 記錄設備。

PI2114 分析儀操作簡便，價格經濟，無需采 用濕化學法或耗材。獲得的 Picarro 光腔衰蕩光譜 ( CRDS ) 技術無需使用移動部件，并且可 融合波長監測功能。這提供了長期的穩定性與可靠性，以實現低頻度校準和維護的要求

確保超低 H₂O₂ 水平

如圖 1 所示，Picarro PI2114 氣體濃度分析儀具有近五個數量級的線性動態范圍，可以持續測量 H₂O₂ 水平。這確保用戶： 

? 測量低至 3.3 ppb 的 H₂O₂ 水平，以避免氧化， 也有助于維持藥物的效能、安全性和穩定性。 

? 從通風周期早期開始監測殘留的 H₂O₂ 水平，以確定其何時可達到足夠低的水平，從而開始可靠 的生產作業。 

? 在整個生產流程中持續監測殘留的 H₂O₂，以確保其不會因材料的廢氣釋放而上升至不可接受的 水平。

圖1 在通風周期內監測殘留 H2O2 水平