| | 設備簡介：
該PECVD系統配置高精度全封閉式液體氣化裝置，為表面薄膜沉積實驗提供包含有毒液體在內的氣化條件。系統由高穩定性射頻電源（200W，13.56MHz）、氣體流量控制系統及真空系統組成，采用NBD-101EP集中總線控制技術的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應和材料表面的化學反應過程，并在適當的溫度下沉積薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及的臺階覆蓋性，正由于這些優點使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。 |
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配置詳情
 | 主要特點： 1. 集成液體氣化系統，可穩定提供包括有毒液體在內的反應氣體條件； 2. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； 3. 上開啟式結構，方便觀察試樣； 4. 產品采用全自動控制方式，觸摸屏，數字化顯示； 5. 設備一體化程度高； 6. 穩定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質量； 7. 出色的電磁波屏蔽方案，高效、安全！ | |||
| 設備型號 | NBD-PE1200-80TID2FY | |||
| 供電電源 | AC220V 50/60HZ | |||
| 控溫精度 | ±1℃ | |||
| 觸摸屏尺寸 | 7英寸 | |||
| 射頻頻率 | 13.56MHz | |||
| 射頻功率輸出范圍 | 0-200W | |||
| 沉積加熱額定功率 | 4.0KW | |||
| 蒸發器額定功率 | 1.3KW | |||
| 伴熱帶額定功率 | 75W | |||
| 傳感器類型 | K型熱電偶 | |||
| 沉積溫度 | 1200℃ | |||
| 沉積額定溫度 | 1150℃ | |||
| 蒸發器額定溫度 | 400℃ | |||
| 伴熱帶額定溫度 | 150℃ | |||
| 推薦升溫速率 | ≤10/min | |||
| 沉積管徑 | Φ80mm*1200mm | |||
| 蒸發源管徑 | Φ50mm*80mm | |||
| 蒸發源有效容積 | 50ml | |||
| PECVD 外形尺寸 | 長1500×高1280×深760mm | |||
| 蒸發器外形尺寸 | 長410×高350×深210mm | |||
| 氣氛條件 | 混合氣、真空等 | |||
| 機械泵抽氣速率 | 16 立方米每小時 | |||
| 爐腔極限真空度 | 3~5Pa | |||
| 法蘭結構 | 航空鋁快開模式； | |||
| 操作系統 |
NBD-101EP集中總線控制集成系統，7"全觸摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人機對話模式； | |||
| 真空測試 | 數字真空計獲取裝置； | |||
| 設備細節 | | | | |
| 部分界面 |
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| 凈重 | 約300KG | |||
| 設備使用注意事項 |
1.射頻匹配器一般處于自動匹配狀態，一般功率需達到50W以上才能匹配； 2.若采用手動匹配，將功率設到60W左右，手動調諧匹配合適時，再增加功率 | |||
| 服務支持 | 一年有限保修，提供終身支持； | |||
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