| Leeb 測量原理 – 由 Proceq 發明 | |
| Leeb 硬度原理基于動態（回彈）法。帶堅硬金屬壓頭的沖擊體由彈簧向檢測件表面推進。當沖擊體沖擊測試表面時，表面出現變形，從而導致動能損耗。當沖擊體在檢測的沖擊和反彈階段分別距離表面特定距離時，能量損失通過對比速度 vi 和 vr進行檢測。 通過沖擊體中的磁鐵在準確定位于沖擊裝置的繞組中產生感應電壓來測量速度。檢測到的電壓與沖擊體的速度成正比。然后信號處理會給出硬度讀數。 |  |
| 優勢 | ● 可使用完整的 Leeb 探頭包，并與 Portable Rockwell 和 UCI 相結合 ● 具有所有 Equotip 產品倍受肯定的高精度 ● 內置強大的報告功能，隨時準備好可用的數據資料 |  |
| 默認單位 | HL | |
| 可用單位 | HB，HV，HRA，HRB，HRC，HS，MPA | |
| 可用探頭 | Leeb D / DC / DL / S / E / G / C | |
| 與其他方法相結合 | Portable Rockwell，UCI | |
| 平均粗糙度 Ra (µm / µinch) | 7 / 275 (Leeb G) | |
| *小質量 (kg/lbs) | 0.02 / 0.045 (Leeb C) | |
| *小厚度 (mm/inch) | 1 / 0.04 (Leeb C) |
| 功能 | | 應用 | ||
| 儀器固件 | ? 沖擊方向自動修正 ? 個性化用戶資料和視圖 ? 集成至自動測試環境中（包括遠程控制） ? 支持 11 種語言和時區 | | 標準到大對象 | √ |
| PC軟件 | Equotip Link 可提供直接報告和自定義報告 | | 圓形對象 | 與支撐環結合使用 |
| 顯示屏 | 7“帶雙核處理器的彩色堅固的觸摸屏裝置（800×480像素） | | 輕薄對象（＜2Kg） | 帶有沖擊裝置 Leeb C |
| 內存 | 內置 8 GB 閃存（> 1000000 個測量值） | | 非常堅硬的對象 | 帶有沖擊裝置 Leeb S 和 E |
| 連接 | USB 主機/設備和以太網 | | 鑄件 | 帶有沖擊裝置 Leeb G 和 D |
| 測量范圍 | 150 – 950 HL | | 拋光的對象 | 帶有沖擊裝置 Leeb C |
| 測量精度 | ± 4 HL（800 HL 時為 0.5%） | | 不易接觸 | 帶有沖擊裝置 Leeb DC 和 DL |
 | | 細小對象（＜5mm） | x | |
| | 熱處理表面 | √ | ||
| | 其他應用 | ● 適合物聯網 (IoT) 和工業 4.0 環境 ● 法蘭, 發動機組, 軸, 齒輪, 起落架, 紙卷檢測, 線圈, 鋼筋, 管道與熱處理 | ||
| 標準化 | |
標準 | 準則 |
| ● ASTM A 956 ● ASTM E 140 ● ASTM A 370 ● ISO 16859 ● DIN 50156 ● GB/T 17394 ● JB/T 9378 | ● ASME CRTD-91 ● DGZfP 準則 MC 1 ● VDI / VDE 準則 2616 文件 1 ● Nordtest 技術報告 424-1, 424-2, 424-3 |
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| 配件 | |
測量配件 | |
| ● Equotip Leeb 沖擊裝置 D (356 00 100) ● Equotip Leeb 沖擊裝置 E (356 00 400) ● Equotip Leeb 沖擊裝置 G (356 00 300) ● 適用于 D/DC/D+15/C/E/S 的支撐環組（12 件裝） (353 03 000) ● 電池組 (327 01 033) ● Equotip Leeb 沖擊裝置 S ● Equotip Leeb 沖擊裝置 DL ● 快速充電器（外置）(327 01 053) ● 特殊二合一套件: Equotip 550 Portable Rockwell & Leeb D 套件 (356 10 021), Equotip 550 Leeb D & UCI 套件 (356 10 022) |  |
驗證工具 | |
| ● Equotip 測試塊 E，<810 HLE / ~63 HRC (357 14 400) ● Equotip 測試塊 G，~570 HLG / ~340 HB (357 32 300) ● Equotip 測試塊 D/DC，<775 HLD / ~56 HRC (357 13 100) ● Equotip 測試塊 D/DC，~775 HLD / ~56 HRC，Proceq 出廠 |
