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四川半導體超純水系統工藝流程

我國的半導體行業近年來發展迅速，在政策支持、市場需求和技術進步等多重因素驅動下，取得了顯著成果。在半導體設計、制造、封裝測試等領域，我國研發人員均取得了不同程度的技術積累和突破，特別是在芯片設計方面，已有一批自主研發的產品初步具備了國際競爭力，在市場中深受重視。盡管如此，我國半導體行業在某些關鍵領域水平仍有一定差距，尤其是芯片制造設備和工藝、部分核心原材料等方面。

在芯片制造和生產中，經常會使用到超純水設備來為芯片生產提高生產質量服務。超純水設備是專用于生產高純度超純水生產的專業技術產品，它的出水水質好，電阻率可達18MΩ*cm(25℃)。超純水的水質成分單一，除了水分子之外，基本不含有任何有機物、金屬離子、細菌和微生物，是進行芯片清洗的理想用水，需要經過該設備“反滲透+EDI+拋光混床”的技術處理才能生產出來。

四川半導體超純水系統工藝流程

超純水設備采用的這套組合工藝，具有出水連續、水質穩定、能耗低、無污染、自動化等優勢。反滲透膜常用于進行溶液中各種離子物質的過濾，不依賴化學反應，可以充分保證水滲透效果。EDI技術能實現帶電荷運行，使進水時的脫鹽效果得到強化，并且不產生酸堿廢液，具有優良的環保性能。超純水設備通過利用反滲透膜實現超純水中的雜質分離去除，并通過EDI技術實現超純水高質量脫鹽，采用拋光混床技術保障出水水質安全可靠。

隨著5G、人工智能、物聯網等新興產業的崛起，國內市場對半導體產品的需求持續增長。整體來看，我國半導體行業正處在快速發展的上升通道中，前景廣闊，潛力巨大，這意味著超純水設備的應用前景依舊廣闊，投資價值高。