一、產品介紹:
本公司為專業制造企業,所生產的烘箱取得。HMDS適用行業-硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料。
HMDS預處理系統的必要性:
在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
HMDS 預處理真空系統通過對箱體內預處理過程的真空、烘烤、充氮、潔凈、HMDS加液等程式過程,參數控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
二、產品特點:
1.控制界面:采用日本三菱 PLC+7寸觸摸屏控制系統,程式化運行,溫度系統,真空系統, 充氮系統,HMDS 注液系統。
2.控制模塊:控制模塊是本系統的核心模塊,它的作用是控制各個模塊的動作和時序,完成整個工藝過程。
3.內膽材質:整個系統采用優質級316L不銹鋼材料制作,無發塵材料,適用百級光刻間凈化環境。
4.密封裝置:密封條為高溫硅膠制作,可耐溫不變形,門與箱體連接密封,加強密封效果。
5.加熱裝置:加熱器采用SUS304#被覆無塵化SHEATHED HEATER壽命長且無污染,依據使用溫度調整控制,節約能源。
6.加熱方式:采用無觸點SCR固態繼電器控制每段溫區發熱管輸出功率大小,接近恒定溫度時,加熱電流變小,使其恒定溫度。
7.底部結構:萬向移動福馬一體承重腳輪,固定好位置可落下支撐腳,方便移動及固定
8.可視窗:采用鋼化、雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。
9. 溫度傳感器 采用日制 PT100 鉑金電阻,精度±0.5%,反應靈敏,耐高溫。
10.真空系統:雙旋片真空泵、真空組件、壓力測量等組成,主要作用是置換氣體和抽走剩余 HMDS 蒸汽。
11.充氮系統:作用是在置換過程中,用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽,從而最終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛,氮氣流量,充入時間可控制。
12.HDMS 注液系統:HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,配置不銹鋼藥液管道,使真空箱密封性能。
13.保護系統:相序保護,漏電保護,過載保護,控制線路,超溫保護,壓力過載保護,急停開關,工作狀態指示燈。
型號規格參數:
型號 | SNR-HMDS-090 | SNR-HMDS-210 |
電源電壓 | 220V/50HZ | 380V/50HZ |
控溫范圍 | RT+10℃-250℃ | |
溫度分辨率 | 0.1℃ | |
溫度波動度 | ≤±0.5℃ | |
真 空 度 | ≤133Pa | |
工作室尺寸(mm) | W450*D450*H450 | W560*D600*H600 |
外形尺寸(mm) | W850*D700*H1490 | W960*D850*H1620 |
層板數量 | 2塊 | 3塊 |
功率 | 3KW | 4.5KW |