設備優點
高脫鹽率和凈化效果:反滲透膜具有很高的脫鹽能力,單級反滲透系統脫鹽率一般可穩定在 97% 以上,雙級反滲透甚至可達 99% 以上,能有效去除水中的礦物質、鹽分、有機物和微生物,確保水質的高純度,滿足半導體芯片制造對超純水的嚴格要求 。
穩定水質:半導體制造過程中,水質的穩定性至關重要。反滲透膜技術能夠減緩原水水質波動對產水的影響,保證生產中水質的持續穩定,這對于芯片的質量控制和成品率的提高非常重要 。
去除微粒和污染物:半導體制造業對水中的顆粒物和雜質有極低的容忍度。反滲透膜能夠有效攔截水中的微粒、膠體以及病毒、細菌等微生物,確保超純水無污染,減少芯片制造過程中的瑕疵和缺陷 。
經濟性:雖然反滲透系統的初期投資較高,但其運行成本相對較低,特別是在能源消耗上。與傳統的蒸餾等方法相比,反滲透膜技術更加節能,有助于降低長期運營成本 。
自動化與連續性:反滲透系統易于實現自動化控制,能夠連續穩定地供應超純水,適應半導體制造過程的連續性和高效率需求。
環境友好:反滲透技術減少了化學藥劑的使用,產生的廢水量相對較少,且易于回收處理,符合半導體行業對環境可持續性的追求 。