光刻機美國實驗室小型光刻機
172納米 全新加工原理
傳統1 72 nm光源的低輸出功率阻礙了該波長在研究和生產中的廣泛應用。 π2 -CYGNI克服了這一障礙，并揭示了1 72nm的真正能力-全新化學驅動方法，反應方式和加工技術。
紫外線不僅僅用于光刻和固化！
全新能量驅動方式
紫外線弧光燈可提供較高的平均功率。 準分子紫外線源提供高光子通量。 π2 -CYGNI提供高平均功率和高光子通量- 無需主動或外部冷卻。
高功率和高光子通量的這種組合包裝在便攜的封裝內，并引發了其他光源無法實現的大面積反應和過程。
全新技術燈具
每個π2 -CYGNI的是一個超薄（<4毫米）平面微腔放電燈。 與傳統的弧光放電燈相比，廣域發射提供了卓越的均勻性，同時消除了對復雜的聚光，準直和均化光學器件的需求。
紫外線無泄漏
在π2 -CYGNI之前，產生紫外線通常意味著產生有毒物質，低轉換效率和高設備成本。 π2 -CYGNI通過提供一種環保且節能的解決方案打破了這些障礙。 π2
-CYGNI的制造和使用過程中不使用有毒材料，在生產過程中使用π- CYGNI可以減少化學材料和水的消耗。 有效的降低了使用成本，即成本僅是使用其他1 72 nm光源成本的一小部分。
光刻機美國實驗室小型光刻機
輸出強度 > 10 mW/cm2
強度均勻性 < 3%
峰值輸出波長 172 nm
-3dB寬度(FWHM) 8.9 nm
發光面積 43 mm x 43 mm
預熱時間（從0到95％） < 2 s
直流輸入電壓 12 V
電源輸入電壓 110-220 V / 50-60 Hz
氮氣/氬氣流速* 0.5-1 SCFM
壽命 > 5000 hours
功耗 < 25 W
傳輸環境：氮氣，氬氣，UV級熔融石英，高真空
π2-Cygni 系統參數
π-Cygni消除了對特定光刻膠化學物質的需求
由于光具有高能量（每個光子7 .2eV），現在幾乎可以將任有機聚合物用作光刻膠！π2-CYGNI的1
72nm可實現更高分辨率的成像，使用簡單且廉價的光刻膠可以消除傳統基于DNQ的光刻膠系統產生的堿廢物。
新型，新的可能性
重新定位傳統的光刻膠。 由于曝光機制的性質，不再需要光敏劑。 簡而言之，π2-CYGNI分解有機聚合物鏈，直到它們揮發和蒸發。
此過程是通用的-幾乎所有有機聚合物現在都可以用作光刻膠，即使是固體形式也是如
此。
干/正/負處理-由您決定！
由于有機膜質量減少，在曝光期間產生圖像，因此消除了對單獨顯影步驟的需要。
由此產生的高對比度足以用于其他過程，從而減少了處理時間并減少了廢物的生。為了滿足更苛刻的應用，可以在曝光后對有機聚合物進行進一步處理以提高分辨率。 但是，與傳統光刻膠不
同，色調（正或負）由顯影液而不是敏化劑決定。 除了減少質量和蒸發外，由于鏈長減少，在曝光過程中聚合物中也會發生交聯。
的單曝光分辨率
較短的波長 較高的分辨率。 與I 線光刻相比，π2-
CYGNI具有將分辨率提高50%的潛力。
