分析方法能量色散X熒光分析方法 測量元素范圍鎂（Mg）到鈾（U）之間的元素均可測量 同時檢測元素數幾十種元素可同時分析 處理器和內存CPU：667MHz,內存：256M，擴展存儲支持32G，標配2G，可以海量存儲數據 含量范圍ppm～99.99% 檢測時間3-30秒 GPS、WIFI內置系統 檢測對象固體、液體、粉末 探測器25mm2 0.3mil，SDD探測器 探測器分辨率可達139eV 激發源40KV/100uA-銀靶端窗一體化微型X光管及高壓電源 視頻系統高清晰攝像頭 顯示屏半透半反式液晶顯示觸摸屏，其分辨率是640*480 檢出限檢出限達ppm級 安全性自帶密碼管理員模式，數據可隨意保存 可充氣系統常壓充氦氣系統 數據傳輸數字多道技術，SPI數據傳輸，分析，高計數率 操作環境濕度≤90% 儀器外形尺寸234×306×82mm（L×H×W） 儀器重量1.9Kg（配備電池），1.6Kg（無電池）
手持光譜儀是一種基于XRF(X Ray Fluorescence,X射線熒光)光譜分析技術的光譜分析儀器，主要由X光管、探測器、CPU以及存儲器組成，由于其便攜具有便攜、準確等特點，使其在合金、礦石、環境、消費品等領域有著重要的應用。尤其適合于不銹鋼材料的牌號確認以及定量測量元素。手持式光譜儀設備維護與保養：
1.手持式光譜儀使用過程中應輕拿輕放，防止內部零件受損。
2.保持檢測口薄膜的清潔，檢測口薄膜被污染可能引起檢測誤差。檢測口薄膜破損繼續使用可能會造成手持式光譜儀的損壞。應及時清潔或更換。
3.被檢測物表面的氧化層和污染物等要用砂輪機或金剛砂去除，以免造成測量結果不準確，被檢測物表面凹凸不平、有毛刺時應在檢測時注意，防止手持式光譜儀檢測口薄膜損壞。檢測鍍件時，要將電鍍層去除。
4.手持式光譜儀電池使用至10%時，應更換電池，充電。
合金分析儀技術性能：
1. 真正實現在現場進行無損,,準確的檢測,直接顯示元素的百分比含量。 2. 只需將合金分析儀直接接觸待測合金表面，無須等待和花費時間即可現場確定合金等級。 3. 被檢測的樣品的對象可以是合金塊、合金片、合金線、合金渣、合金粉。 4. 不規則或小型樣品的補償性測試方法能檢測很小或很少的樣品,如直徑為0.04mm的細絲也能立即辨認。 5. 手式可延伸的探頭設計能對管道內部、焊縫,等位置進行檢測。 6. 可檢測溫度高達450℃的高溫材料。 7. 可現場在庫中添加,編輯,合號。 8. 快的分析速度,僅需2秒鐘可識別合金元素。 9. 用戶化windowsCE6.0系統驅動的微電腦顯示系統使所有功能皆可現場完成，用戶化windows CE僅保留有基本的windows與Delta系統有關的性能，使程序更具靈活性。 10. 無需借助電腦，可在現場隨意，查看，放大相關元素的光譜圖。 11. 防塵,防霧,防水：一體機設計，軟膠與塑膠部件凸槽凹槽構造設計，使儀器具有很好的三防性能，可承受惡劣的工作環境,大霧,下雨,塵土飛揚工裝場地也能正常工作。 12 更高的檢測精度，多次測試的平均值統計功能可有效地提高儀器的檢測精度。 13 超大的圖標顯示，菜單式驅動，微電腦WINDOWS系統使儀器操作更加簡便。 14. 電磁干擾被屏蔽，即使在靠近手機或雙向無線通信裝置處也能正常工作。
技術參數： 重量： 1.6kg 尺寸： 30cm（L） x 10cm（W） x 28cm（H） 激發源： X射線管，Ag靶，40kV 檢測器： SI-PIN檢測器 操作系統：HP掌上電腦：Windows 5.0 Bruker 軟件 冷卻系統：Peltier 半導體冷卻系統 電源： 交、直流供電;充電鋰電池 工作條件：溫度：-20 ℃ ～ 55 ℃ 濕度：0～95%
手持式光譜儀是一種基于XRF光譜分析技術的光譜分析儀器，當能量高于原子內層電子結合能的高能X射線與原子發生碰撞時,驅逐一個內層電子從而出現一個空穴,使整個原子體系處于不穩定的狀態,當較外層的電子躍遷到空穴時,產生一次光電子，擊出的光子可能再次被吸收而逐出較外層的另一個次級光電子，發生俄歇效應,亦稱次級光電效應或無效應。所逐出的次級光電子稱為俄歇電子。當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不被原子內吸收,而是以光子形式放出,便產生X 射線熒光，其能量等于兩能級之間的能量差。因此，射線熒光的能量或波長是特征性的,與元素有一一對應的關系。由Moseley定律可知，只要測出熒光X射線的波長,可以知道元素的種類,這是熒光X射線定性分析的基礎。此外,熒光X射線的強度與相應元素的含量有一定的關系,據此,可以進行元素定量分析。X射線探測器將樣品元素的X射線的特征譜線的光信號轉換成易于測量的電信號來得到待測元素的特息。
手持式光譜儀系統誤差的來源有： (1)標樣和試樣中的含量和化學組成不相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。 (2)標樣和試樣的物理性能不相同時，激發的特征譜線會有差別從而產生系統誤差。 (3)澆注狀態的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統誤差。 (5)要系統誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規定要求。為了檢查系統誤差，需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
