概述
產品參數
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136 nm，FFT圖像0.105 nm(高分辨率鏡頭*)
HAADF-STEM圖像0.144 nm(標準鏡頭)
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204 nm(w/o球差校正儀)
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時
低濃度元素檢測
操作簡化
自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現無縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容
配有各種選購件可執行各種評估和分析操作
同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*圖像。
低劑量功能*(使樣品的損傷和污染程度降至)
高精度放大校準和測量*
實時衍射單元*(同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案)
采用三維微型柱旋轉樣品桿(360度旋轉)*，具有自動傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時元素面分布系統*(同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像)
* ：
選購件
產品參數
| 項目 | 描述 | ||
|---|---|---|---|
| 圖像分辨率 | w/o球差校正儀 | 保證 0.204 nm(當放大倍數為4,000,000時) | |
| w球差校正儀 | 保證 0.144 nm(當放大倍數為7,000,000時)(標準鏡頭) | ||
| 保證 0.136 nm(HAADF圖像) 保證 0.105 nm(通過FFT)(當放大倍數為7,000,000時)(高分辨率鏡頭*) | |||
| 放大倍數 | 100倍 至 10,000,000倍 | ||
| 加速電壓 | 200 kV, 120 kV * | ||
| 成像信號 | 明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像(TE圖像) 暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數襯度圖像(Z襯度圖像) 二次電子圖像(SE圖像) 電子衍射* 特征X射線分析和面分布(能譜分析)* 電子能量損失譜分析和面分布(EV3000)* | ||
| 電子光學系統 | 電子源 | 肖特基發射電子源 | |
| 冷場致發射器* | |||
| 照明透鏡系統 | 2-段聚光鏡鏡頭 | ||
| 球差校正儀* | 六極鏡頭設計 | ||
| 掃描線圈 | 2-段式電磁感應線圈 | ||
| 原子序數襯度收集角控制 | 投影鏡設計 | ||
| 電磁圖像位移 | ±1 µm | ||
| 試片鏡臺 | 樣品移動 | X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm | |
| 樣品傾斜 | 單軸-傾斜樣品桿：±30°(標準鏡頭), ±18°(高分辨率鏡頭*) | ||
| 真空系統 | 3個離子泵，1個TMP | ||
| 極限真空 | 10-8 Pa(電子槍), 10-5 Pa(樣品室) | ||
| 圖像顯示 | 個人電腦／操作系統 | PC/AT兼容, Windows® XP | |
| 監視器 | 19-inch液晶顯示器面板 | ||
| 圖像幀尺寸 | 640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素 | ||
| 掃描速度 | 快掃，慢掃(0.5至320秒/幀) | ||
| 自動數據顯示 | 記錄序號，加速電壓，下標尺，日期，時間 | ||
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選購件
