技術參數:
可提供各種不同材料、周期、功能的極限尺度光柵,一期產品,采用納米壓印技術結合電子束鍍膜、反應離子刻蝕等現代微加工技術制造,光柵周期500~100nm,極限尺寸可<100nm,可用于各類高分辨光譜儀、精密數控機床、衛星導航和導彈制導等民用、軍事領域。
另外還可提供高密度自支撐透射金屬光柵,一期產品,采用納米壓印技術結合電子束鍍膜、反應離子刻蝕、等現代微加工技術制造,自支撐光柵的極限周期可達100nm,即光柵密度達到10000線/mm。可用于民用核能監測、天文航天探測等高技術領域。
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