用途及主要技術(shù)性能
LM-2型退火爐是專為熱釋光探測器設計的熱釋光元件退火裝置。其特點是溫度控制精確，性能穩(wěn)定可靠，操作簡單方便，外形美觀大方，適合各種熱釋光元件的退火處理，是熱釋光劑量測量系統(tǒng)的理想配套裝置。
LM-2熱釋光精密退火爐
用途及主要技術(shù)性能
LM-2型退火爐是專為熱釋光探測器設計的熱釋光元件退火裝置。其特點是溫度控制精確，性能穩(wěn)定可靠，操作簡單方便，外形美觀大方，適合各種熱釋光元件的退火處理，是熱釋光劑量測量系統(tǒng)的理想配套裝置。
溫度范圍：0~400℃任意設定。
精度：±0.5%滿刻度。
升溫時間：正常情況下，由室溫升至240℃所需時間小于1小時。
溫度過沖值：當PV、SV值平衡后，將樣品盤放入爐內(nèi)，溫度過沖值不超過2℃。
溫度顯示：PV/SV等各項參數(shù)均為數(shù)字顯示。
控制方式：具有AT（自動整定）功能的PID控制。
傳感器：帶法蘭盤的不銹鋼Pt100。
加熱元件：遠紅外。
執(zhí)行元件：SSR。
10．TLD冷卻：必要時可啟動風機對劑量元件進行風冷。
11．退火時間控制：可在0~99分鐘時間內(nèi)任意設定。
12．供電電源；220VAC 50Hz；熔斷源 4A。
13．外形尺寸及重量：300×350×480mm；重量30kg。
14．工作環(huán)境：-5℃~50℃；45~85%RH。
