應中科院合肥物質科學研究院固體所所長蔡偉平研究員邀請，7月18日至22日，英國牛津儀器儀表等離子體技術公司（Oxford Instruments Plasma Technology，UK）方起研究員訪問了固體所，并作了題為“原子層沉積系統（ALD）的發展與應用”的學術報告，并與該所相關科研人員進行了座談和討論。
　　
　　ALD技術作為一種*的薄膜生長技術，已經在高介電和半導體薄膜生長等多方面得到了應用。新型高介電柵介質材料，納米材料和納米技術以及3D電子器件等是推動ALD發展重要的需求動力。方起研究員向大家介紹了ALD基本原理、發展歷程、應用現狀和未來的發展趨勢，特別是等離子體增強ALD的技術優勢。方起研究員還針對ALD實驗室建設和應用提供了專業的建議和意見。