應中科院合肥物質科學研究院固體所所長蔡偉平研究員邀請,7月18日至22日,英國牛津儀器儀表等離子體技術公司(Oxford Instruments Plasma Technology,UK)方起研究員訪問了固體所,并作了題為“原子層沉積系統(ALD)的發展與應用”的學術報告,并與該所相關科研人員進行了座談和討論。
ALD技術作為一種*的薄膜生長技術,已經在高介電和半導體薄膜生長等多方面得到了應用。新型高介電柵介質材料,納米材料和納米技術以及3D電子器件等是推動ALD發展重要的需求動力。方起研究員向大家介紹了ALD基本原理、發展歷程、應用現狀和未來的發展趨勢,特別是等離子體增強ALD的技術優勢。方起研究員還針對ALD實驗室建設和應用提供了專業的建議和意見。
版權與免責聲明:
凡本網注明"來源:儀表網"的所有作品,版權均屬于儀表網,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明"來源:儀表網"。違反上述聲明者,本網將追究其相關法律責任。
本網轉載并注明自其它來源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網贊同其觀點或證實其內容的真實性,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時,必須保留本網注明的作品來源,并自負版權等法律責任。
如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發表之日起一周內與本網聯系,否則視為放棄相關權利。
合作、投稿、轉載授權等相關事宜,請聯系本網。聯系電話:0571-87759945,QQ:1103027433。