光譜干擾是什么?有什么影響？ICP光譜儀小編在下文中為您介紹。
由于ICP光源激發能量高，產生大量的發射譜線，在(200~1000)nm波長范圍內，據統計有1000余萬條譜線，平均0.1nm就分布100度條，幾乎每個元素的分析線都受到不同程度譜線干擾。檢查光譜干擾效的方法，是對分析線附近進行掃描，單獨檢查每個共存元素在該波段的發射情況，以確定是否要另選分析線或者進行干擾校正。在使用全譜直讀型ICP時，光譜背景的校正比較靈活。光譜干擾是ICP-AES中的主要干擾，可分為譜線重疊干擾和背景干擾。
1譜線重疊干擾
譜線重疊干擾是指另外一個元素的譜線重疊或部分重疊在測定元素的分析線上形成的干擾。主要采用干擾系數(IEC)校正法來進行校正，譜線重疊主要包括直接重疊和分析線變寬引起的線翼重疊。其主要的干擾線和分析線*重合。其主要的干擾類型有以下兩種：
(1)直接譜線重疊，干擾線和分析線*重疊。
(2)復雜譜線重疊，分析線和兩條以上的干擾線重疊。
如果干擾譜線與分析譜線*重疊，譜線干擾可以用干擾等濃度法或干擾系數法來校正。該方法是通過測定干擾元素。標準溶液在待測定元素譜線位置處的強度，求出單位濃度干擾元素的干擾量(干擾系數)，再計算出應予扣除的干擾線影響的濃度值。如：地質樣品中用Cr205.552nm作為分析線進行測定時，大量鐵會有干擾。當鐵的質量濃度為1000mg/L時，造成鉻質量濃度增加0.2mg/L。干擾系數為0.2/1000=0.0002.求出干擾系數后，可從分析結果中扣除由于干擾造成的濃度增加，因而得出無干擾的分析系數。這種方法必須同時冊數干擾元素濃度。對于普通的ICP光譜儀，這是比較常用的校正方法。
如果干擾譜線與分析譜線是部分重疊，則IEC常常會得到錯誤的結果，因為對于部分重疊的情況，IEC的干擾因子不是固定的值，隨著干擾元素濃度的變化而呈現變化。這時候就需要采用多譜線擬合(MSF)來進行校正。
以上就是光譜干擾的內容，如果您還有什么問題，歡迎聯系ICP光譜儀小編。
