真空熔煉噴鑄甩帶一體爐設備特點 設備用途：
該設備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。
A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料
B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料 結構組成 本設備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。
真空熔煉噴鑄甩帶一體爐參數 ：
1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~300g
2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g
3、高真空室真空度：≤5.0×10E-3Pa
4、加熱電源功率：25Kw；頻率范圍：30~80KHz
5、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體
6、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm
7、銅輥線速度：5~70m/S 8、水流量：3~100L/min
真空熔煉噴鑄甩帶一體爐設備結構組成
1、真空腔體：由爐體、爐蓋和爐底組成；爐體由304不銹鋼法蘭和內外筒體組焊而成，內壁鏡面拋光，爐體上開設有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預熱電源電極引入接口；爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內的各種實驗情況；爐底也是由整體實心304加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。
2、熔煉裝置：由 IGBT超音頻電源、水冷電纜、旋轉電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現不同容量。***高溫度可加熱至1700℃。（容量按照50g,200g,500g,1000g來配），熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內。
3、噴鑄裝置：由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現小容量溶液的噴帶和噴鑄。（噴鑄配石英管，***大容量50g）
4、甩帶裝置：由噴鑄裝置、高速調速電機、磁流體密封裝置和銅棍等組成，可通過調節(jié)電機速度，實現不同銅棍線速度。
5、抽真空系統(tǒng)：由一臺擴散泵、一臺雙極直聯(lián)泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態(tài)極限真空度優(yōu)于5.0×10E-3Pa。
6、爐體支架：由型材和鋼板拼裝而成，門板全部采用數控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結構。
7、電氣控制系統(tǒng)：各種電氣元器件采用品牌，按照行業(yè)標準制作而成。面板采用模擬屏，可直觀控制設備的各部件，并有水欠壓、斷水聲光報警并自動切斷加熱功能。
8、水冷卻系統(tǒng)：由水冷機、各種閥門和水管等組成，帶有電接點水壓表，具有超壓、欠壓報警功能。（水冷機為選配件）
