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真空磁懸浮熔煉爐

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更新時間：2025-07-18 10:06:23瀏覽次數：13次

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產品簡介

一、設備用途真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景

詳細介紹

一、設備用途
　　真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用，顯示出良好的應用前景。
二、設備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，設計溫度可達2100及以上，專門應用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮專用IGBT電源，配合自助研發的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統真空度高，極限可達5.0*10-4pa。

三、主要技術參數

1·設備型號：KZGF-0.25

2、額定功率：65Kw

3、容量（以鈦計）：0.25Kg

4、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

5、冷態極限真空度：6.67×10E-4Pa

6、控制方式：模擬屏+電動控制（可擴展plc+觸摸屏）

關鍵詞：控制系統觸摸屏

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