地埋式無動(dòng)力生活污水處理成套設(shè)備
污水進(jìn)行處理具有高效節(jié)能、處理成本低、工藝簡單、一次性投資低、運(yùn)行費(fèi)用低、易操作等優(yōu)點(diǎn)
魯盛環(huán)保將顧客的需求,顧客的要求,嚴(yán)格按照圖紙?jiān)O(shè)計(jì)制造每一款產(chǎn)品,保證出廠質(zhì)量合格,達(dá)到顧客滿意！
設(shè)備使用方便、靈活，成本低。
公司產(chǎn)品：地埋式一體化污水處理設(shè)備、二氧化氯發(fā)生器、氣浮機(jī)、加藥設(shè)備、絮凝沉淀設(shè)備等
1、國內(nèi)普遍脫硫廢水處理工藝
目前國內(nèi)脫硫廢水處理工藝的選定基本都依據(jù)國家排放標(biāo)準(zhǔn)。主要處理類和第二類污染物，采用的主要工藝方法為物化法，該工藝流程是以國外在我國電廠脫硫廢水處理工藝應(yīng)用的基礎(chǔ)上進(jìn)行縮放的模式。
脫硫廢水pH值一般在5～6范圍內(nèi)，呈弱酸性，此時(shí)許多重金屬離子仍有良好的溶解性。所以，脫硫廢水的處理主要是以化學(xué)、機(jī)械方法分離重金屬和其他可沉淀的物質(zhì)，如氟化物、亞硫酸鹽和硫酸鹽。調(diào)節(jié)pH值，從而使廢水能達(dá)到有關(guān)環(huán)保質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)和排放標(biāo)準(zhǔn)。沉淀分離是一種常用的金屬分離法，除活潑金屬外，許多金屬的氫氧化物的溶解度較小。故脫硫廢水一般采用加入可溶性氫氧化物，產(chǎn)生氫氧化物沉淀來分離重金屬離子。值得注意的是，由于在不同的pH值下，金屬氫氧化物的溶度積相差較大，故反應(yīng)時(shí)應(yīng)嚴(yán)格控制其pH值。

在脫硫廢水處理中，一般控制pH值8.5～9.0之間，在這一范圍內(nèi)可使一些重金屬，如鐵、銅、鉛、鎳和鉻生成氫氧化物沉淀。國內(nèi)普遍使用調(diào)節(jié)pH值和重金屬離子形成氫氧化物沉淀的藥劑為氫氧化鈉（NaOH）或者氫氧化鈣（Ca（OH）2）；NaOH可直接從市場采購；Ca（OH）2則需要市場采購石灰粉進(jìn)行配置，工藝相對復(fù)雜。但使用Ca（OH）2的優(yōu)勢是，反應(yīng)過程中同時(shí)產(chǎn)生CaF2、CaSO3、CaSO4沉淀物，以分離氟化物、亞硝酸鹽、硫酸鹽等鹽類物質(zhì)。采用Steinmuller技術(shù)的波蘭RAFAKO公司認(rèn)為，使用Ca（OH）2溶液，通過加絮凝劑、助凝劑還可沉淀CaCl2，分離Cl-。而*的原因，困擾濕法脫硫工藝的首要難題是Cl-的去除。所以用Ca（OH）2調(diào)節(jié)脫硫廢水pH值是*選擇。
對于汞、銅等重金屬，一般采用加入可溶性硫化物如硫化鈉（Na2S），以產(chǎn)生Hg2S、CuS等沉淀，這兩種沉淀物質(zhì)溶解度都很小，溶度積數(shù)量級在10-40～10-50之間。而Na2S本身的毒性會給污泥的培養(yǎng)以及操作運(yùn)行人員帶來不利影響。而國內(nèi)目前普遍采用15%TMT溶液（Trimer2capto-s-trianzin）替代Na2S來沉淀汞、重金屬等，取得比較好的效果。用于混凝劑的藥劑為復(fù)合鐵（硫酸氯鐵FeClSO4）；用于助凝劑的藥劑為PAM（聚丙烯酰胺）；用于調(diào)節(jié)pH出水的藥劑為鹽酸（HCl）。這些工藝操作相對簡單，也是目前國內(nèi)脫硫廢水處理工藝的主流。
地埋式無動(dòng)力生活污水處理成套設(shè)備添加上述藥劑的廢水在綜合反應(yīng)槽中進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。綜合反應(yīng)槽共分3格，由pH調(diào)整槽、反應(yīng)槽及絮凝槽連通構(gòu)成，分別完成廢水的pH調(diào)整、沉淀反應(yīng)和混凝澄清。澄清器主要用于沉淀前級設(shè)備反應(yīng)生成的絮體，由于絮體密度較小，沉降性能較差，因此澄清器采用較低的上升流速和較長的停留時(shí)間。澄清池的排泥方式為間斷排泥，泥渣通過泥渣泵外排。設(shè)計(jì)排泥時(shí)間一般為每天6～8h。
從目前國內(nèi)濕法脫硫廢水處理運(yùn)行狀況看，經(jīng)上述處理工藝處理后重金屬離子以及氟離子均能穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放,但SS和COD往往不能穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放。脫硫廢水處理出水COD不達(dá)標(biāo)原因主要是廢水中COD濃度高（煤質(zhì)和石灰石產(chǎn)地不同，濃度也不同）。有的廢水COD濃度400mg/L，采用物化法的去除率一般只有45～55%，因此往往超標(biāo)。SS濃度超標(biāo)主要原因是澄清和污泥濃縮池合建，當(dāng)污泥處置不及時(shí)，澄清污泥濃縮池中污泥界面上升造成沉降時(shí)間不足引起SS超標(biāo)排放。超濾膜系統(tǒng)在啟動(dòng)時(shí)，建議進(jìn)行2-3分鐘的正洗來除去膜組件里殘留的化學(xué)品及空氣。正洗是進(jìn)水從膜組件下部進(jìn)水口進(jìn)入膜組件，沖洗膜絲外表面，從膜組件頂部濃水口排出，這一步驟時(shí)間內(nèi)將不過濾進(jìn)水。在正洗完成后，系統(tǒng)可以轉(zhuǎn)換到過濾運(yùn)行狀態(tài)。通常一個(gè)運(yùn)行周期為20-60分鐘，根據(jù)進(jìn)水條件和清洗程序而變化。在正常的過濾狀態(tài)下，的進(jìn)水被過濾即全流過濾。由于在過濾過程中截留污染物，跨膜壓差(TMP)將會上升，在預(yù)先設(shè)定的運(yùn)行步驟的結(jié)尾，會轉(zhuǎn)入到氣擦洗和反洗的清洗步驟。
氣擦洗
超濾膜系統(tǒng)按照自動(dòng)控制程序?qū)⑥D(zhuǎn)入氣擦洗步驟，氣擦洗是利用壓縮空氣產(chǎn)生的氣泡松動(dòng)膜絲外表面截留的污染物。壓縮空氣從膜組件底部進(jìn)氣口進(jìn)入到膜絲外表面，從頂部濃水口排出。
底部排水
在氣擦洗步驟后，停止進(jìn)氣，打開下排放閥，將膜組件重力排干，隨排水帶走松動(dòng)的污染物。
上反洗
排水完畢之后進(jìn)行步反洗，即上反洗步驟。反洗水從膜組件上部產(chǎn)水口進(jìn)入膜絲內(nèi)部，從與運(yùn)行產(chǎn)水相反的方向透過膜絲，反洗廢水在膜絲外部匯集，打開反洗上排放閥，使反洗廢水從膜組件頂部濃水口排出。上反洗步驟能首先清洗膜組件污染zui嚴(yán)重的上端區(qū)域。

下反洗
正洗
在反洗結(jié)束后，需進(jìn)行正洗以去除任何殘留的污染物和/或化學(xué)藥品，并排除聚集在膜組件內(nèi)部的空氣。完成正洗后，超濾系統(tǒng)即可重新投入到過濾運(yùn)行狀態(tài)或者備用狀態(tài)。
化學(xué)加強(qiáng)反洗（CEB）
在通過常規(guī)氣擦洗輔助反洗步驟無法除去所有污染物的情況下，通過在反洗時(shí)加入化學(xué)藥劑可以加強(qiáng)反洗的效果，即化學(xué)加強(qiáng)反洗（CEB,ChemicalEnhancedBackwash）。CEB過程包括一個(gè)氣擦洗過程、加入化學(xué)藥劑反洗、浸泡和將污染物和化學(xué)藥劑沖出的常規(guī)氣擦洗輔助反洗過程。在CEB過程中，非常重要的一點(diǎn)是在加入化學(xué)藥劑的反洗前，要保證將絕大部分的污染物通過常規(guī)反洗從膜組件中除去。這樣，化學(xué)藥劑才可以直接作用到那些難以除去的污染物上。同樣重要的是要保證整個(gè)膜組件中充滿合適濃度的化學(xué)藥劑和合理的浸泡時(shí)間。通常浸泡可持續(xù)5至10分鐘，有時(shí)為了使化學(xué)藥劑與黏附在膜絲表面或進(jìn)入膜絲孔通道內(nèi)的污染物充分接觸，也可延長浸泡時(shí)間。浸泡后，要保證將所有的化學(xué)藥劑沖洗出整個(gè)系統(tǒng)。
CEB所使用的化學(xué)藥劑種類根據(jù)原水水質(zhì)可能產(chǎn)生的污染物進(jìn)行選擇，CEB頻率根據(jù)產(chǎn)生的污染物頻繁情況而定。一般
使用的化學(xué)藥劑為NaClO、NaOH和HCl等。根據(jù)所使用的化學(xué)藥劑的不同，CEB一般分為針對由于原水中有機(jī)物及生物引起的污染的堿CEB，和針對由于原水中鐵、鋁的膠體或者硬度結(jié)垢引起的無機(jī)物污染的酸CEB：
堿CEB：0.1%NaClO+0.05%NaOH(目標(biāo)pH12)
酸CEB：0.1%HCl或H2SO4(目標(biāo)pH2)
就地化學(xué)清洗（CIP）
就地化學(xué)清洗（CIP）操作包括反洗和化學(xué)品循環(huán)清洗。CIP是一個(gè)基于需求的操作。CIP頻率受到給水水質(zhì)的影響，頻率可以從1個(gè)月到3個(gè)月不等。CIP前要執(zhí)行一次的常規(guī)反洗，其步驟包括氣擦洗、底部排放、上反洗和下反洗。反洗的步驟通常重復(fù)3到8次，以去除各種不需要的化學(xué)清洗即可去除的污染物。反洗步驟完成后，通過重力排水排掉膜組件中多余的水，防止后續(xù)CIP化學(xué)藥品濃度被稀釋。CIP清洗液在膜組件和化學(xué)清洗水箱之間循環(huán)30分鐘（CIP藥品從膜組件進(jìn)水側(cè)打入）。一部分CIP清洗液的濾液也被收集并循環(huán)回的化學(xué)清洗水箱。請注意，CIP清洗液可以加熱到40oC，以提高去除膜組件中污染物的效率。循環(huán)清洗后可以浸泡60分鐘或更長的時(shí)間，浸泡時(shí)間長短主要取決于膜組件的污染程度。浸泡步驟后，再次將CIP清洗液循環(huán)30分鐘。