上海德竹芯源科技有限公司
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Picosun R-200 系列原子層沉積系統是一款多功能的原子層沉積平臺，是用于研發的理想選擇，適用于 IC 器件、MEMS 器件、顯示器、LED、激光器以及透鏡、光學部件、珠寶、硬幣、醫療植入物等 3D 部件的研發。
● 適用 2 - 8 inch 晶圓，156mm × 156mm 太陽能硅片
● 可適用于多孔，通孔，高深寬比樣品（可達 1 : 2500）
● 工藝溫度：50 - 500℃
● Advance 型號配有等離子處理系統，工藝溫度 450℃（可選配特定chuck盤至 650℃）
● 適用鍍膜種類：Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，AlN，TiN，Pt，Ir 等
● 手動上料，可選配機械臂，搬運機器人或 Cassette-to-Cassette 上料
● 前驅體種類：液體、固體、氣體、臭氧源、等離子體等
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