上海德竹芯源科技有限公司
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更新時間：2024-08-12 07:30:46瀏覽次數(shù)：169次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網EVG 620NT 光刻機主要應用于半導體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領域，用于生產精密電子元件、微型機械元件和光學元件等。
主要特點及參數(shù)
● 高效率：采用的光學技術，縮短了生產周期，提高了生產效率
● 高精度：通過對光學系統(tǒng)的精細調整，保證圖像的精確性
● 易操作：系統(tǒng)控制簡單方便，易于生產操作
● 設備安全：系統(tǒng)采用安全設計，確保生產過程中的人員和設備安全
● 技術支持：提供專業(yè)的技術支持和售后服務，保證系統(tǒng)的正常使用
● 光刻材料：支持多種光刻材料，包括硅片、玻璃片、聚碳酸酯等
● 半導體工藝：支持常用的半導體工藝，如薄膜沉積、光刻、蝕刻等
● 光刻工具：支持常用的光刻工具，如光刻掩膜、光刻模板等
● 分辨率：可達到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡
EVG 620NT 光刻機的工藝過程大致如下：
1. 材料準備：選擇適當?shù)墓饪滩牧希绻杵⒉Ａ龋M行表面處理
2. 掩膜制作：根據生產要求，制作光刻掩膜，并確保掩膜的精確性
3. 樣品處理：將樣品固定在工作臺上，并確保樣品的穩(wěn)定性
4. 光刻操作：打開光刻機，根據生產要求，對樣品進行光刻處理
5. 樣品檢查：檢查樣品的質量，確保其符合生產要求
● 分辨率：可達到 100 nm
● 工作面積：620 mm × 620 mm
● 光源：KrF 激光
● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡
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