醴陵市 反滲透凈水設備

純凈水設備，簡單來說就是純凈水的設備。而純凈水又被我們用于：生活飲用、化工、、養殖、種植、食品、飲料等。

反滲透設備膜分離技術，能效地去除水中的帶電離子、機物、膠體微粒、細菌及機物質等。是高純水制備、苦咸水脫鹽和廢水處理工藝中的設備。用于電子、醫藥、食品、輕紡、化工、發電等領域。

反滲透又稱逆滲透，一種以壓力差為推動力，從溶液中分離出溶劑的膜分離操作。對膜一側的料液施加壓力，當壓力超過它的滲透壓時，溶劑會逆著自然滲透的方向作反向滲透。從而在膜的低壓側得到透過的溶劑，即滲透液；高壓側得到濃縮的溶液，即濃縮液。若用反滲透處理海水，在膜的低壓側得到淡水，在高壓側得到鹵水。

設備構成

反滲透純凈水處理一般包括預處理、反滲透裝置、后處理、清洗和電控制等。 預處理一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、準確過濾器等。其主要是降低原水的污染指數和余氯等其他雜質，達到反滲透的進水要求。 反滲透裝置主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等組成。其主要是去除水中的雜質，使出水滿足使用要求。

后處理是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾等其中的一種或者多種設備。

清洗主要清洗水箱、清洗水泵、準確過濾器組成。當反滲透受到污染出水指標不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復功效。

電控制是用來控制整個反滲透正常的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電控制柜等。

點

1.反滲透膜為卷式復合膜。膜材質：芳香族聚酰。

2.透水量大，脫鹽率高。正常情況下≥98%

3.對機物，膠體、微粒、細菌、病毒、熱源等很高的截留去除。

4.能耗小，水利用率高，低于其它脫鹽設備。

5.分離過程沒相變，具可靠穩定性。

6.設備，、容易維護，適應，。

設計特點

1、通過增大對水的壓力達到對水的深層過濾。反滲透純凈水設備除了包括一般的過濾器之外，還具精細過濾器、顆粒活性炭過濾器和壓縮活性炭過濾器。精細過濾器具比一般過濾器更精細的過濾功能，能更好地過濾水中的雜質。正如我們所知道的，活性炭具良好地對異味、雜質的吸附過濾功能，反滲透式純凈水設備運用雙重活性炭過濾器實現了對原水的深層過濾加工，提高了設備的過濾效率。同時，通過增加水的壓力來增強過濾能力也是一種創新。

2、反滲透純凈水設備的核心是反滲透膜的。反滲透膜是一種孔徑小的過濾膜，利用這種膜可以實現對原水的超精細過濾，同時可以把水分成較高濃度和低濃度。較高濃度的水可以被循環再利用，低濃度水就是純凈水，可以供人使用。

清洗方法

反滲透技術因具殊的*性而得到日益的。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設備的管理，就可以避免出現嚴重的問題。

反滲透設備

定期對反滲透設備進行大流量、低壓力、低pH值的沖洗利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設備進水SDI突然升高超過5.5以上時，應進行低壓沖洗，待SDI值調至合格后再開機。

設備停運保護

由于的波動，反滲透設備不可避免地要經常停運，短期或停用時必須采取保護措施，不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。

短期保存適用于停運15d以下的，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設備。實踐發現，水溫20℃以上時，反滲透設備中的水存放3d就會發臭變質，大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉凈水設備反滲透裝置上所進出口閥門。

停用保護適用于停運15d以上的，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為10(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1(質量分數)。

化學清洗

在正常條件下，反滲透膜也可能被機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理，調整的參數。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設備的水平，是否需要改進預處理較難判斷。

處理

反滲透是整個純凈水的核心部件，只通過反滲透才能達到純凈水的規準。反滲透主要采用膜過濾工藝。然后水分子可以通過反滲透膜。其他一些如鈣、鎂、鈉等離子隨廢水一起掉。下面本的組成部件。

1.準確過濾器

主要過濾水中的大顆粒分子。

2.種高壓泵

為反滲透設備提供強勁的動力。

3.反滲透膜

反滲透膜采用的是膜過濾技術。讓水分子通過其他一些離子不能通過達到凈化水的。

醴陵市 反滲透凈水設備

主要用途

1、制取電子工業如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

2、制取熱力、火力發電鍋爐，礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

3、制取醫藥工業所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、菌水及人工腎透析用純水等；

4、制取飲料（含酒類）行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；

5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；

6、制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）工藝的純水；汽車、家用電器、建材產品 表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；

7、石油化工業如化工反應冷卻水；化學藥劑、化肥及精細化工、化妝品過程用工藝純水；

8、賓館、樓宇、社區機場房產物業的供水網絡及游泳池水質凈化；

9、線路板、電鍍、電子工業廢水處理及回用；

10、生活、、制革、印染、造紙工業廢水及垃圾滲瀝液的處理；

濃度化危害

反滲透膜分離過程中，水分子透過以后，膜界面中含鹽量增大，形成較高的濃水層，此層與給水水流的濃度形成很大的濃度梯度，這種現象稱為膜的濃差化（concentration polarization）。濃度化會對產生害的影響。

（1）由于界面層中的濃度很高，相應地就會使滲透壓升高。滲透壓升高后，勢必會使原來條件的產水量下降。為達到原來的產水量，就要提高給水壓力，使產品水的能耗增大

（2） 由于界面層中鹽的濃度升高，膜兩側的Δc增大，使產品水鹽透過量增大。

（3） 由于界面層的濃度升高，對易結垢的物質增加了沉淀的傾向，導致膜的垢污染。為了恢復性能要頻繁地清洗垢物，并可能造成不可恢復的膜性能下降。

（4） 形成的濃度梯度，歲采取一定措施使鹽分擴散離開膜表面，但膠體物質的擴散要比鹽分擴散速度小數百數千倍，因而濃度化是促成膜表面膠體污染的重要原因。

濃差化的結果是鹽水的滲透壓加大，因而反滲透所需要的壓力也得增大；此外，還可能引起某些難溶鹽（如CaSO4）在膜表面析出。因此，在中必須保持鹽水側呈絮流狀態以減輕濃差化的程度。

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