基本型二氧化氯發生器 

基本型二氧化氯發生器產品屬性：化學法、負壓式、復合型

基本型二氧化氯發生器是一種集化學反應、準確計量、電子控制、閉環電子監視為一體的準確可靠的創新技術產品，整個主要由準確計量泵、反應器及流量監視組成，采用整機集成為一體的集成安裝方式，因此，，性能可靠，維護容易。

反應原理：NaCLO3+2HCL→CLO2+1/2CL2+NaCL+H2O

使用原料：（工業一級品，含量≥99%）；

鹽酸（工業一級品，濃度≥31%）

基本型二氧化氯發生器產品性能：

采用化學法負壓曝工藝，結構，，故障率低，；

采用主機、料罐整式設計，（占地面積0.5－1.2平方米）、重量輕、、維修方便，安裝容易，低。

供料采用滴定閥，顯示直觀，加藥量可手動調節。

溫控采用自動恒溫控制，具缺水、短路保護及超溫報警等功能。

電元件較少，易損件，故障率低。

投加利用壓力水，可實現發生器與動力水的聯動控制。

穩定型好，。適用于處理規模小、對自動化要求不高的水處理場合。

范圍：

1、各種場合下的生活、飲用、自來水的消毒;

2、餐廳、賓館、家庭、餐具衛生設施的滅菌消毒和空環境消毒等。

3、食品、飲料、發酵工業的設備、管道、容器的終滅菌消毒。

4、乳品、屠宰場的管道、設施及環境的滅菌處理;

5、污水的滅菌消毒處理;

6、游泳池、工業循環水、浴池水的滅菌消毒;

7、、衛生、臨床器械的消毒、滅菌、除臭的防霉處理;

8、家庭、賓館、飯店、水果蔬菜、魚肉等食品的保鮮及終淋洗消毒;

9、配置各種口腔消毒液、除臭劑及創口清洗液等。

10、中的滅菌及脫臭;

11、面粉與各種食品的漂白劑;

12、造紙、印染行業的漂白藥劑;

13、電鍍含氰廢水的破氰處理、印染廢水的脫色處理，工業徨冷卻水的處理。

基本要求

1)、基本型二氧化氯發生器的設計及電器設計應符合19517和 或相應的規準和組織認可的規準要求。

2)、基本型二氧化氯發生器采用的PVC材料應符合/和或相應的規準和組織認可的規準要求。

3)、基本型二氧化氯發生器的應符合或相應的規準和組織認可的規準的規定。頒發的基本型二氧化氯二氧化氯發生器許可批件

4)、基本型二氧化氯發生器的反應應設置安防爆裝置。

5)、各管道應泄漏現象。

6)、原料液輸送應連動裝置。

7)、發生器時所用原料應符合相應規準的規定。

技術要求

基本型二氧化氯二氧化氯消毒劑發生器

1. 基本型二氧化氯發生器的二氧化氯產量應不低于額定值;

2. 發生器產生的消毒劑溶液中，二氧化氯(以效氯計)占總效氯的質量百分數不小于95%;

3. 主要原料如亞的轉化率不低于80%。

控制要求

控制可根據水質變化自動定比調節投藥量，并且設缺水停機，藥停機等各種安保護設施。基本型二氧化氯二氧化氯發生器在電磁流量計的控制下，自動恒定比例加藥，實現自動人控制，并實現數據遠傳，具遠程通訊接口可與DCS計算機通訊。

裝

1)、基本型二氧化氯發生器與配電裝置宜分室放置，房間內應AC220V交流電源

2)、基本型二氧化氯發生器產生的氫應出室外，其關口應遠離火源，操作間照明用安防爆燈，室內應具良好的通風設施。

3)、基本型二氧化氯發生器進水口接口，出消毒液接口，外接管路直徑應與之，消毒液口需裝一止回閥。

4)、進水管路可用鐵管或塑料管，出藥管路須用聚氯乙烯或ABS塑料管。

5)、基本型二氧化氯發生器旁應給水水設施。

6)、注意設備接地保護等問題。設備間內應水設施。且設備間應設簡單地面。

7)、應大于0.3Mpa的自來水水源。

注意事項

1、前設備內必須加入足夠的清水，嚴禁空機運轉;

2、計量泵停止供料，應使水射器繼續工作一小時以上，使反應器內的二氧化體充分抽空，以免發生體從進水管溢出。

3、如動力水源突然停水，應立即關閉計量閥門。

4、鹽酸為強酸，操作人員應戴防護手套，原料NaCLO2禁止與各種酸類物品存放在一起，并遠離火源。

5、設備溫控水箱應經常補水，以防損壞加熱器，控制器設保護裝置，當水箱水位低于設定值時，控制柜上故障燈亮，應立即補水。

6、二氧化氯具強氧化性，設備的軟塑料管，易老化和密封不嚴，應定期檢查更換。

7、定期清理反應器內的沉淀物，如發現反應**液位管液位顯示超過正常界限，則說明沉淀物過多，應立即沖洗。并檢查原料的質量。

8、在原料含雜質的情況下易堵塞應注意清理疏通。

9、設備為水浴加熱，當設備不用時，將加熱水，反應液放掉，以防溫度低于0度時結冰，損壞設備。若設備間歇使用，為防止加熱水和反應液結冰，可保持溫控箱持續工作。

基本型二氧化氯發生器 

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