TC WAFER晶圓測溫系統 光刻晶圓溫度測量系統

TC為熱電偶的簡稱， TC WAFER則是直接鑲嵌于晶圓表面的溫度傳感器，可以實現晶圓表面溫度的實時測量。借助于放置在晶圓表面特定位置之溫度傳感器，可獲得這些特定位置的真實溫度測量值以及整天晶圓溫度分布；同時，也可利用此傳感器來持續監控在熱處理工程中晶圓暫態溫度變化，例如：升溫，降溫過程及延遲周期等！（溫度的均勻與否，良率）

半導體晶圓溫度檢測的重要性

在半導體生產過程中，晶圓溫度是一個至關重要的參數。不同的工藝步驟對于溫度有不同的要求，過高或者過低的溫度都會對半導體器件的性能產生負面影響。因此，準確監測和控制晶圓的溫度是保證半導體產品質量和產能的關鍵。

TC WAFER晶圓測溫系統優勢

它可以實現非接觸式測溫，不需要直接接觸晶圓表面，避免了污染和破壞的風險。其次，TC Wafter晶圓測溫具有較高的測量精度和響應速度，能夠實現對薄膜沉積過程中微小溫度變化的準確監測。最后，TC Wafter晶圓測溫技術具有良好的重復性和穩定性，能夠長時間穩定運行。

產品特點

半導體制造廠 Fab，PVD/CVD 部門、RTP 部門等使用

傳感器可以定制

高精度多通道數據采集儀

優異的軟件功能，方便數據統計、趨勢繪圖和數據導出

TC WAFER晶圓測溫系統 光刻晶圓溫度測量系統