摘要 德國斯派克輝光放電光譜儀光譜分析儀型號：GDA750/GDA550產品分類：輝光放電光譜儀輝光放電分析（GDA）于1968年出現，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析

摘要 核心參數產地類別進口儀器

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術邁入了一個全新的時代。

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 750/GDA 550，是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。

摘要 SPECTRUMA 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味著以CCD檢測器為代表技術的輝光放電光譜儀進入了新的高度。

摘要 核心參數儀器種類進口輝光放電光譜儀

摘要 核心參數儀器種類進口輝光放電光譜儀

摘要日本HORIBA GD-Profiler 2™輝光放電光譜儀GD-Profiler 2™ 可以快速、同時分析所有感興趣的元素，包括氣體元素N、O、H和Cl，是薄膜和厚膜表征和工藝研究的理想工具。GD-Profiler 2™ 配備的射...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是*強大的GDOES光譜儀，非常適合研發任務?；谀K化概念，可以設想多種選項組合，因此可以為您的應用實現*佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導電...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是強大的GDOES光譜儀，非常適合研發任務?；谀K化概念，可以設想多種選項組合，因此可以為您的應用實現佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導電樣品...

摘要簡要描述： GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是強大的GDOES光譜儀，非常適合研發任務。基于模塊化概念，可以設想多種選項組合，因此可以為您的應用實現佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導電樣品...

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術邁入了一個全新的時代。

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 GD-Profiler™ HR輝光放電光譜儀

摘要 德國SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家專注于技術創新和生產的高技術科學儀器公司。輝光放電光譜儀可做到： - 對材料表面涂覆過程的質量監控和各種表面處理工藝的過程監測； - 采用深度剖面分析技術，可以精確地測定涂層厚度和化學成分。

摘要 德國SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家專注于技術創新和生產的高技術科學儀器公司。輝光放電光譜儀可做到： - 對材料表面涂覆過程的質量監控和各種表面處理工藝的過程監測； - 采用深度剖面分析技術，可以精確地測定涂層厚度和化學成分。

摘要 現在，大多數的材料都是多層結構，比如太陽能光伏電池、LED、硬盤、鋰電池電極、鍍層玻璃等

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術。它在熱處理，電鍍，化學及物理鍍層工藝中有著廣泛的應用前景。

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術。它在熱處理，電鍍，化學及物理鍍層工藝中有著廣泛的應用前景。

摘要 輝光放電分析（GDA）于1968年出現，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。 這種分析方法不斷地發展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統的激發技術相比，輝光放電 技術的突出優點是能夠表層分析樣品的表層。

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 輝光放電光譜儀

摘要 脈沖射頻輝光放電光譜儀—可超快速進行薄/厚膜的深度剖析在過去的15年中，HORIBAScientific不斷與*的等離子體鍍層研究組織進行跨領域合作，使得HORIBAScientific的輝光放電光譜儀性能得到了大幅度提升

摘要 法國Jobin Yvon GD-Profiler型輝光放電光譜儀是快元素深度分布分析工具。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA Alpha采用新研發的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術邁入了一個全新的時代。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 750/GDA 550，是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。

摘要 SPECTRUM 高分辨率輝光放電光譜儀 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味著以CCD檢測器為代表技術的輝光放電光譜儀進入了新的高度。

摘要 GDA750/GDA550是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。多達79個分析通道，采用PMT檢測器，GDA750/GDA550型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈..

摘要 GDA650/GDA150的成功推出，意味著以CCD檢測器為代表技術的輝光放電光譜儀進入了新的高度。GDA650/GDA150裝備有一代的CCD固態檢測器，與高分辨率光學系統匹配。..

摘要 GDAAlpha采用研發的CCD檢測器，使得輝光放電光譜儀技術邁入了一個全新的時代。GDAAlpha裝備有一代的CCD固態檢測器，與高分辨率光學系統匹配。新一代的CCD檢..

摘要 GD-Profiler™ HR輝光放電光譜儀

摘要 Profiler 2射頻輝光放電光譜儀

摘要 GDOES光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是大的GDOES光譜儀，非常適合研發任務。基于模塊化概念，可以設想多種選項組合，因此可以為您的應用實現配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導電樣品。GDA 7

摘要 輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等

摘要 解密鍍層工藝、解析鍍層結構輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等

摘要 脈沖射頻輝光放電光譜儀—可超快速進行薄/厚膜的深度剖析在過去的15年中，HORIBAScientific不斷與*的等離子體鍍層研究組織進行跨領域合作，使得HORIBAScientific的輝光放電光譜儀性能得到了大幅度提升

摘要 輝光放電直讀光譜儀（GD-OES）是適用于涂（鍍）層厚度和表面深度組成以及元素成分的*分析技術。它在熱處理，電鍍，化學及物理鍍層工藝中有著廣泛的應用前景。