SIGMA 300場發射掃描電子顯微鏡
世界光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋)，積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗。
CARL ZEISS以其前瞻性**的設計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造核心*的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。
SIGMA 300場發射掃描電子顯微鏡【核心技術】
蔡司公司推出Sigma300場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，將低電壓成像技術發揮到了，采用適宜的探針電流范圍，降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma自動的四步工作流程大大節省了設置與分析操作的時間，提高效率。
【技術參數】
分辨率：1.0nm@30kV STEM
1.0nm @15 kV
1.8nm @1kV
放大倍數：10-1,000,000×
加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV(無需減速模式實現)
探針電流： 3pA～20nA(100nA選配) 穩定性優于 0.2%/h
低真空范圍： 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
樣品室： 365 mm(φ)，275mm(h)
樣品臺：5軸優中心全自動
X=125mm
Y=125 mm
Z=50 mm
T=-10º-90º
R=360º 連續
系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
存儲分辨率：32k x 24k pixels
【產品應用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分 析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶 粒取向測量。
