德國斯派克輝光放電光譜儀
初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。 這種分析方法不斷地發展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統的激發技術相比，輝光放電 技術的突出優點是能夠表層分析樣品的表層。
詳細內容
德國斯派克輝光放電光譜儀 型號：GDA-750
輝光放電分析（GDA）于1968年出現，初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。
這種分析方法不斷地發展，尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統的激發技術相比，輝光放電
技術的突出優點是能夠表層分析樣品的表層。
- 德國斯派克輝光放電光譜儀
適用于質量控制和材料研究
在金屬分析領域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。
表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和
近表層區域實現質量控制。
采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學成分。
對于傳統的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術可以作為優先選用的方
法。
采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導體材料和涂
層，如玻璃，陶瓷，釉質和油漆涂層。
GDA750可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂
（鍍）層的深度可測量至200um
表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。
分析軟件具有強大功能并且靈活易用；
化學成分可以與其他特性，如被分析區域中的密度和質量分布同時測定。
通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產工藝過程化和
地避免廢品浪費。
GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學成分），為復雜基體材料的分析提供具
有良好線性的工作曲線。
