三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD
適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業、硅片制造業、電子信息產業等觀察研究的理想儀器。總放大倍數：50-600X
產品概述
三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD采用優良的無限遠光學系統與多功能、模塊化的設計理念，帶有偏光裝置、暗場裝置，可實現偏光觀察、暗場觀察等功能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微鏡操作的防振要求。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、精密工程學、電子學、半導體工業、硅片制造業、電子信息產業等觀察研究的理想儀器。總放大倍數：50-600X
◆產品特點：三目暗場金相顯微鏡WYJ-55BD
1、采用了*的無限遠光路設計，提供了的光學系統。
2、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。
3、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。
4、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。
5、兩路光路自由切換輸出，一路用于觀察，一路連接攝像裝置。
◆典型應用：
1、電子工業制造業對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。
2、觀察材料表面的某些特性，3、分析金屬、礦相內部結構組織。
規格參數
一、顯微鏡參數：
序號 | 名稱 | 技術參數 |
01 | 平場目鏡 | 大視野WF10X(Φ22mm) |
02 | 明暗平場物鏡 | 無限遠長距PLL 5X/0.10、10X/0.25、20X/0.40、40X/0.60、60X/0.75 |
03 | 總放大倍數 | 50X-600X |
04 | 觀察頭 | 三目，鉸鏈式30°傾斜可360°旋轉 |
05 | 轉換器 | 五孔(內向式滾珠內定位) |
06 | 粗微調焦機構 | 粗微動同軸調焦,帶鎖緊和限位裝置,微動格值:2μm. |
07 | 載物臺 | 雙層機械移動式(尺寸:210mmX140mm,移動范圍: 75mmX50mm) |
08 | 光瞳距離 | 53-75mm |
09 | 濾色片 | 藍、磨砂 |
10 | 聚光鏡 | 阿貝聚光鏡N.A.1.25，帶可變光欄，可上下升降 |
11 | 落射照明系統 | 12V30W鹵素燈, 亮度可調 |
內置視場光欄、孔徑光欄、(藍、綠、黃、磨砂玻璃)濾色片轉換裝置， | ||
12 | 暗場偏光裝置 | 推拉式起偏振器 暗場可移出視場 |
13 | 透射照明系統 | 12V30W 鹵素燈,亮度可調 |
14 | 儀器重量 | 凈重10.0公斤 毛重12.0公斤 |
15 | 儀器尺寸 | 儀器尺寸26X46X55（cm） 包裝尺寸28X35X65(cm) |
二、目鏡參數：
| 放大倍率 | 視場直徑(mm) | 外徑(mm) |
WF10X/22 | 10X | Φ22 | Φ30 |
三、物鏡參數：
| 數值孔徑 N.A | 分辨率 R(μm) | 工作距離WD(mm) | 共軛距離Conjugate(mm) | 齊焦距離Parfocus(mm) | 蓋玻片厚度CoverGlass(mm) |
5X | 0.12 | 2.10 | 9.70 | ∞ | 45 | 無 |
10X | 0.25 | 1.10 | 9.30 | ∞ | 45 | 無 |
20X | 0.40 | 0.70 | 7.23 | ∞ | 45 | 無 |
40X | 0.60 | 0.55 | 3.00 | ∞ | 45 | 無 |
60X | 0.75 | 0.42 | 1.90 | ∞ | 45 | 無 |
