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霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜 鍍膜機

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位于中國上海浦東外高橋保稅區的伯東企業(上海)有限公司創建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業,公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業員工有400多人。
伯東企業(上海)有限公司真空產品事業部()專業銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);檢漏儀,質譜儀,真空系統等等, 維修技術力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業培訓工程師,多年來致力于真空系統的安裝、調試、維修、拆機、保養等,具有優良的專業技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質量體系認證、ISO14001-1996環境體系認證。公司將在今后的發展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向專業化、優質化、集團化發展。

為將國外的高科技產品與中國經濟和社會的飛速發展緊密結合,為促進國內.貿易的快速發展,伯東企業(上海)有限公司,以高科技推動現代化,以高質量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業代理公司,代理上公司的 半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創新.求真.發展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優質的產品, 同時,提供全伯東集團網絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯手合作,共建一個誠信.發展.共同進步的良好環境.

 

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產地進口 加工定制 適用領域科研
上海伯東離子源典型應用: 直徑 2.2m 蒸鍍機, 霍爾離子源用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠鏡鏡片全反射膜, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業成本!霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜
霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜 鍍膜機 產品詳情

價格電議
 美國 KRI 離子源應用于蒸鍍直徑 1.5m 天文望遠鏡鏡片全反射膜
上海伯東代理美國 KRI 大尺寸霍爾離子源 EH 3000 HC, 離子束具有業界中廣角的涵蓋面積及密度的離子濃度, 在離子輔助鍍膜工藝中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以獲得高均勻性及高致密性的膜層. EH 3000 HC 近日成功應用于直徑 2.2m 蒸鍍機, 用于蒸鍍 1.5m 天文望遠鏡鏡片. 通過使用上海伯東 KRI 離子源鍍全反射膜, 高均勻性及高致密性的膜層可以保障光源有效反射, 盡可能減少吸收. 直徑 2.2m 鍍膜腔, 僅需安裝1臺 EH 3000 HC 霍爾離子源, 即可完成鍍膜, 直接降低企業成本!
霍爾離子源,蒸發鍍膜
上海伯東離子源蒸鍍典型案例: 根據客戶 2.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和工藝條件, *選用霍爾離子源 eh3000 HC, 配置中空陰極, 中和器, 自動控制器
1. 設備: 2.2m 蒸鍍鍍膜機.
2. 基材: 1.5m 天文望遠鏡鏡片鍍鋁 Al, 外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護膜
3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
4. 離子源應用: 天文望遠鏡鏡片鍍全反射膜, 約3個小時; 保障光源有效反射, 盡可能減少吸收.

霍爾離子源 EH 3000 HC 主要技術參數

離子源

尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
可通氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2,
離子束發散角度:> 45° (hwhm)
水冷

 離子源
KRI 離子源控制器類似應用: 汽車頭燈模塊鍍全反射膜, 使發光源的光全部反射出去照亮

美國 KRi 霍爾離子源憑借高密度的離子濃度, 廣角度涵蓋面積的離子束, 可控制離子的強度及濃度, 已廣泛應用于離子輔助鍍膜 IBAD , 獲得高質量的膜層. 上海伯東美國 KRi 霍爾源可依客戶鍍膜機尺寸, 基材尺寸及工藝條件選擇對應型號: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 歡迎聯絡上海伯東葉小姐,分機109
霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜
霍爾離子源典型應用 IBAD 輔助鍍膜

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