Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡
一直以來，Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的電子和離子光學系統(tǒng)、配件和軟件，能夠為納米量級研究提供強大的解決方案。對于從事納米技術(shù)前沿研究的科學家，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界，為材料研究開辟新的天地。
借助價值的亞納米 SEM 成像技術(shù)、S/TEM 超薄樣本制備能力以及確的原型設(shè)計功能，科學家能夠?qū)?Helios NanoLab 當作理想的研究伴侶，為未來的科技進步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級器件。
Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡
在材料科學領(lǐng)域，研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實現(xiàn)技術(shù)進步，在納米量級了解結(jié)構(gòu)和成分細節(jié)至關(guān)重要。Helios NanoLab 設(shè)計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測樣本微小的細節(jié)。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備質(zhì)量的樣本。此外，如果研究工作包括開發(fā) MEMS 或 NEMS 器件，也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。
Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺，既能以*的效率制備 TEM 樣本，又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置，效率*，并且是面向?qū)嶒炇液徒a(chǎn)環(huán)境的低每樣本成本半導體分析工作流的關(guān)鍵組成部分。
地質(zhì)學家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術(shù)對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術(shù)*特色，博采 FIB（聚焦離子束）銑削和 SEM（掃描電子顯微鏡）分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能，客戶可以創(chuàng)建二維序列圖像，進而開展三維容積重建。根據(jù)這些數(shù)據(jù)，客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網(wǎng)絡(luò)等紋理。
Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡
要想Helios DualBeam™掃描電子顯微鏡在三維背景下了解生物事件，就必須采用的成像解決方案，而且這些成像解決方案應(yīng)能以*的分辨率呈現(xiàn)極小的細節(jié)，從而揭示出復雜網(wǎng)絡(luò)的超微結(jié)構(gòu)和空間結(jié)構(gòu)。Helios NanoLab 具有的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力，還配備了高精度壓電工作臺，堪稱小型 DualBeam 平臺之選。出色的成像能力，輔以透鏡內(nèi)和柱內(nèi)檢測器提供的高對比度檢測技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)真正的對比度。
