上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性：
1.水冷 - 加速冷卻
2.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
5.高效的等離子轉換和穩定的功率控制
KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:
離子源型號
| 霍爾離子源 eH3000 |
Cathode/Neutralizer | HC |
電壓 | 50-250V |
電流 | 20A |
散射角度 | >45 |
| 可充其他 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
氣體流量 | 5-100sccm |
高度 | 6.0“ |
直徑 | 9.7“ |
水冷 | 可選 |
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域：
1. 濺鍍和蒸發鍍膜 PC
2. 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 直接沉積 DD
