● 采用技術-積木錯位蠅眼透鏡消衍射技術和線條陡直增強技術,曝
光圖形質量好,光刻分辯力高。
● 采用創的CCD圖像底面對準,單曝光頭正面曝光實現雙面對準
功能。
● 采用新穎的高精度,多自由度掩模一樣片精密對準工件臺結構,掩模與
樣片對準過程直觀,套刻對準速度快,精度高樣片的放置采用推拉式
基準平板,真空吸附式,操作方便。
● 采用1000W長壽命型汞燈光源,曝光能量高,聚光角度小,光源穩定,
持久。
● 支持真空接觸曝光,硬接觸曝光,壓力接觸曝光,接近式曝光四種曝光功能。
● 配備循環水冷卻系統,照明面溫度恒定。
● 具有納米壓印接口功能。
● 曝光面積:8英寸;對準精度:≤±2 μm(雙面,片厚0.8mm)/0.8 μm(單面)。
● 掩模尺寸:4英寸、5英寸、7英寸、9英寸。
● 光刻分辨力:1 μm。
● 曝光方式:定時(倒計時方式0.1s-9999.9s任意設定)和定劑量。
● 膠厚:500 μm(SU8膠,用戶提供檢測條件)。
● 汞燈功率:1000W(直流,進口直流高壓汞燈德國歐司朗)。
● 照明不均勻性:5%(Φ200mm 范圍)。