主要產品技術特征及指標：
● 軟件界面友好、科學、直觀。可對當前曝光區域，待曝光區域，曝光參
數等信息提供實時的圖形化。
● 通過選配背面對準模塊，可實現雙面對準曝光，將該機型升級為具有雙
面對準曝光功能步進投影光刻機。
● 配置焦面檢測自動控制系統，焦面位置設定后，曝光過程中自動實時完
成焦面調整。
● 采用冷光膜與i線照明系統，曝光波長為365nm，曝光面為冷光，曝光
圖形方、陡、直。
● 支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光
功能。
● 采用技術-積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明不均勻優于2%。
● 采用*的離軸對準系統，對準過程自動完成，對各種不同大小的基片，（含碎片）對準十分適用。
● 對準精度：±0.5 μm。
● 照明均勻性：2%。
● 曝光面積：3mm×3 mm ~ 50mm×50mm。
● 調焦臺運動靈敏度：1 μm。
● 掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸。
● 調焦臺運動行程：5mm。
● 光刻分辨力：0.3μm ~ 5 μm。
● 檢焦：CCD檢測，檢測精度0.5 μm。
● 光源：350W球形汞燈。
● 汞燈功率：1000W（直流，進口直流高壓汞燈德國歐司朗)。
