產(chǎn)品詳情
島津場(chǎng)發(fā)射電子探針EPMA-8050G 開創(chuàng)新紀(jì)元——的空間分辨率與超高靈敏度的結(jié)合
“The Grａnd EPMA” 誕生
搭載場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)將島津EPMA分析性能發(fā)揮到。
從SEM觀察條件到1μA量級(jí)，在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場(chǎng)發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀，將分析性能發(fā)揮至。
當(dāng)之無愧的 “The Grａnd EPMA” ，水準(zhǔn)的EPMA誕生！
[性能特點(diǎn)]
● 的空間分辨率
電子探針可達(dá)到的別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV），分析條件下的二次電子分辨率。
（加速電壓10kV時(shí)20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
● 大束流超高靈敏度分析
實(shí)現(xiàn)3.0μA（加速電壓30kV）的束流。可超高靈敏度進(jìn)行超微量元素的面分析。并且全束流范圍無需更換物鏡光闌。
● 高性能X射線譜儀
秉承島津電子探針頗具優(yōu)勢(shì)的52.5°X射線取出角。采用4英寸羅蘭圓半徑的分光晶體兼顧高靈敏度與高分辨率。可同時(shí)搭載5通道高性能X射線譜儀。分析性能更勝。
● 全部分析操作簡(jiǎn)單易懂
全部操作僅靠一個(gè)鼠標(biāo)就可進(jìn)行的*可操作性。追求「易懂」的人性化用戶界面。搭載導(dǎo)航模式，自動(dòng)指引直至生成報(bào)告。
◎?qū)崿F(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析的*技術(shù)
1、高亮度肖特基發(fā)射體
島津場(chǎng)發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更
大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析*的穩(wěn)
定大電流。
2、 EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng)
電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡
形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可
變光闌透鏡來形成交叉點(diǎn)的（日本：第4595778號(hào)）。簡(jiǎn)單的透鏡結(jié)
構(gòu)，既能獲得大束流，同時(shí)全部電流條件下設(shè)定最合適的打開角度，將電子
束壓縮到最細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。
3、超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2
級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控制流入中
間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。
4、高靈敏度X射線譜儀
島津場(chǎng)發(fā)射電子探針最多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。
52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí)，又可減小樣品對(duì)X射線
的吸收，實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。
[應(yīng)用舉例]
1. 島津場(chǎng)發(fā)射電子探針EPMA-8050G檢測(cè)：無鉛焊錫焊料中Ag與Cu的分布
對(duì)無鉛焊錫焊料中大量含有Ag的區(qū)域進(jìn)行面分析的數(shù)據(jù)。（加速電壓：10kV；照射電流：20nA）
Ag的X射線像中顆粒形狀與BSE像（COMPO）的顆粒形狀一致。直徑約0.1μm的Ag顆粒也清晰可辨（紅色虛線圈出）。同時(shí)可確認(rèn)Cu顆粒的存在（黃色虛線圈出）。
島津場(chǎng)發(fā)射電子探針EPMA-8050G應(yīng)用數(shù)據(jù)
2. 島津場(chǎng)發(fā)射電子探針EPMA-8050G檢測(cè)：生物體組織中的金屬元素
以下數(shù)據(jù)為EPMA捕捉到的腫瘤細(xì)胞中鉑（Pt）元素圖像，通過靶向給藥將抗腫瘤藥物（鉑絡(luò)合物）導(dǎo)入小鼠頭頸部腫瘤組織中后進(jìn)行分析檢測(cè)。
通過與癌細(xì)胞內(nèi)的遺傳因子DNA鏈結(jié)合，阻礙DNA的分裂（復(fù)制）以殺滅癌細(xì)胞，我們可以通過元素圖像了解抗癌藥物以何種形態(tài)進(jìn)入癌細(xì)胞內(nèi)。
島津場(chǎng)發(fā)射電子探針EPMA-8050G應(yīng)用數(shù)據(jù)
