Edmund eflX™ 反射物鏡 工作距離19～31mm
ReflX™鏡頭有一系列的優點：機械結構結實可靠，可抵抗高溫震動工作環境而不犧牲性能，所有的內表面都經過處理以減小雜散光，生產裝配都在mei,國，用Zygo- GPI- XP干涉儀進行檢測，通過檢測的每個鏡頭都認證書。可承 jie,客 戶訂制。
Edmund eflX™ 反射物鏡 工作距離19～31mm
● 具有行業 ling,先 水平的 19 至 31mm 工作距離
● 愛特蒙特光學公司為聚焦或成像應用而設計并制造
● 主動對準，以獲得 zui,佳 性能
● 從190nm 至 11μm 的超寬光譜帶且無色差
Edmund eflX™ 反射物鏡 工作距離19～31mm
通用規格
傳輸波前，RMS：λ/10 安裝螺紋：RMS
生產商：Edmund Optics®
與普通的Schwarzschild 物鏡相比，ReflX™鏡頭有一系列的優點：機械結構結實可靠，可抵抗高溫震動工作環境而不犧牲性能，所有的內表面都經過處理以減小雜散光，生產裝配都在mei,國，用Zygo- GPI- XP干涉儀進行檢測，通過檢測的每個鏡頭都認證書。可承 jie,客 戶訂制。
技術數據
森泉為您的科研事業添磚加瓦：
激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設備與系統等等
探測器：光電探測器、單光子計數器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統等等
定位與加工：納米定位系統、微納運動系統、多維位移臺、旋轉臺、微型操作器等等
光源：半導體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等
光機械件：用于光路系統搭建的 gao 品 zhi 無應力光機械件，如光學調整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等
光學平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等
光學元件：各類晶體、光纖、偏轉鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等
染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發光染料、吸收染料等等
