矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機采用國際UHV配件及金屬密封件,本底真空可達到10-9 ~ 10-10 Torr量級。在超高真空環境下制備出的薄膜材料含氧量低、晶粒性更為明顯,廣泛適用于超導結、量子器件和自旋電子學的研究開發。
技術參數:
1 本底真空可達10-9 ~ 10-10 Torr;
2 單基片設計,尺寸可定制;
3 基片可旋轉并加熱:300℃/500℃/800℃;
4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍,共濺射;
5 靶槍角度可調,濺鍍距離可調,可升級強磁靶;
6 防交叉污染隔板設計;
7 可配備離子束輔助沉積;
8 可配備樣品預清洗功能;
9 可配備快速進樣室;
10 可配備自動壓力控制系統;