產品介紹：
1、數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術、通道可不受限制 ；
2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，真空CCD全譜技術光譜儀；
3、采用真空型恒溫光室，穩定、可靠、免維護；不再采用小型雙光室設計解決長短波元素的技術問題；
4、基體范圍內通道改變、增加不需費用；
5、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；
6、優良的數據穩定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據一致性 ；
7、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；
8、高集成度、高可靠性、高穩定性 ；
9、節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點：
1、可測定C、P、S、Si、Mn、Ni、Cr、Mo、Cu等多種元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鉻基、鈦基、鎂基、鋅基、錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范 圍，可根據客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用最短的時間達到的分析效果；
3、光學系統采用真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性；
4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的 像素位置進行測定；
6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料 ；
9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源系統及控制系統等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部，保證了儀器優秀的品質。
技術參數：
光學系統
光學結構
帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統
光室溫度
自動控制恒溫：35℃±0.5℃
波長范圍
140-800nm
光柵焦距
350 mm
光柵刻線
3600 l/mm
一級光譜線色散率
1.2 nm/mm
探測器
多塊高性能線陣CCD
平均分辨率
